特許
J-GLOBAL ID：201203021797304180

プラズマ処理システムにおけるプラズマ閉じ込め構造

発明者：
ハドソン・エリック

ハドソン・エリック について

, 
フィッシャー・アンドレアス

フィッシャー・アンドレアス について


出願人/特許権者：
ラム リサーチ コーポレーション

ラム リサーチ コーポレーション について


代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-542367
公開番号（公開出願番号）：特表2012-513095
出願日： 2009年12月16日
公開日（公表日）： 2012年06月07日
要約：
【解決手段】基板のプラズマ処理中にプラズマ処理チャンバ内でプラズマを閉じ込めるよう構成された可動プラズマ閉じ込め構造が提供される。可動プラズマ閉じ込め構造は、プラズマを取り囲むよう構成された可動プラズマ対向構造を備える。可動プラズマ閉じ込め構造は、さらに、可動プラズマ対向構造の外側に配置され、基板の取り扱いを容易にするために可動プラズマ対向構造と共に単一のユニットとして配置および格納されるよう構成された可動導電構造を備える。可動導電構造は、プラズマ処理中に高周波(RF)接地される。可動プラズマ対向構造は、プラズマからのRF電流がプラズマ処理中に可動プラズマ対向構造を通して可動導電構造に流れるように、プラズマ処理中にプラズマと可動導電構造との間に配置される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板のプラズマ処理中にプラズマ処理チャンバ内でプラズマを閉じ込めるよう構成された可動プラズマ閉じ込め構造であって、 前記プラズマを取り囲むよう構成された可動プラズマ対向構造と、 前記可動プラズマ対向構造の外側に配置され、前記基板の取り扱いを容易にするために前記可動プラズマ対向構造と共に単一のユニットとして配置および待避されるよう構成され、前記プラズマ処理中に高周波(RF)接地される可動導電構造と、 を備え、 前記可動プラズマ対向構造は、前記プラズマからのRF電流が前記プラズマ処理中に前記可動プラズマ対向構造を通して前記可動導電構造に流れるように、前記プラズマ処理中に前記プラズマと前記可動導電構造との間に配置される、可動プラズマ閉じ込め構造。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/509
FI (3件)：
H05H1/46 M ,  H01L21/302 101B ,  C23C16/509
Fターム (9件)：
4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030KA30 ,  5F004AA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BB23 ,  5F004BB29 ,  5F004CA06
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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