特許

J-GLOBAL ID：201203022262956940

有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法

発明者： 土肥 俊郎 ,  黒河 周平 ,  大西 修 ,  津守 不二夫 ,  岩橋 孝典 ,  六原 行一
出願人/特許権者： 住友化学株式会社 ,  国立大学法人九州大学
代理人 (2件)： 酒井 宏明 ,  寺崎 直
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-265172
公開番号（公開出願番号）：特開2012-119083
出願日： 2010年11月29日
公開日（公表日）： 2012年06月21日
要約：

【課題】平坦な有機層を備える有機EL素子を提供する。【解決手段】一対の電極と、該電極間に設けられる1層以上の有機層とを備える有機EL素子の製造方法は、前記一対の電極のうちの一方の電極が設けられた基台を準備する工程と、1層以上の有機層を形成する工程と、前記一対の電極のうちの他方の電極を形成する工程とを含み、前記有機層を形成する工程では、1層以上の有機層のうちの少なくとも1層を、有機材料を含むインキを塗布成膜し、成膜された薄膜に、表面が平坦な部材を押し当てて前記薄膜を平坦化して形成する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一対の電極と、該電極間に設けられる1層以上の有機層とを備える有機EL素子の製造方法であって、 前記一対の電極のうちの一方の電極が設けられた基台を準備する工程と、 1層以上の有機層を形成する工程と、 前記一対の電極のうちの他方の電極を形成する工程とを含み、 前記有機層を形成する工程では、1層以上の有機層のうちの少なくとも1層を、有機材料を含むインキを塗布成膜し、成膜された薄膜に、表面が平坦な部材を押し当てて前記薄膜を平坦化して形成する、有機EL素子の製造方法。

IPC (2件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (4件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 D ,  H05B33/22 B

Fターム (12件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107BB02 ,  3K107CC33 ,  3K107DD58 ,  3K107DD70 ,  3K107DD71 ,  3K107DD74 ,  3K107DD78 ,  3K107DD87 ,  3K107GG06 ,  3K107GG28