Al合金膜、Al合金膜を有する配線構造、およびAl合金膜の製造に用いられるスパッタリングターゲット

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：植木久一 , 植木久彦 , 菅河忠志 , 伊藤浩彰 , 竹岡明美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-127711
公開番号（公開出願番号）：特開2012-094485
出願日： 2011年06月07日
公開日（公表日）： 2012年05月17日
要約：

【課題】薄膜トランジスタ基板、反射膜、反射アノード電極、タッチパネルセンサーなどの製造工程において、塩化ナトリウム溶液の浸漬下におけるAl合金表面の腐食やピンホール腐食(黒点)などの腐食を有効に防止できて耐食性に優れており、しかもヒロックの生成も防止できて耐熱性にも優れたAl合金膜を提供する。【解決手段】本発明のAl合金薄膜は、基板上に配線膜または反射膜に用いられるAl合金膜であって、Taおよび/またはTi:0.01〜0.5原子%と、希土類元素:0.05〜2.0原子%と、を含有するものである。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板上に配線膜または反射膜に用いられるAl合金膜を有し、前記Al合金膜は、Taおよび/またはTi:0.01〜0.5原子%と、希土類元素:0.05〜2.0原子%と、を含有することを特徴とするAl合金膜。

IPC (12件)：

H05B 33/26 , H01L 21/285 , H01L 21/28 , H01L 23/52 , H01L 21/320 , H01L 29/786 , C22C 21/00 , H05B 33/24 , H01L 51/50 , H05B 33/10 , G09F 9/30 , H01L 27/32

FI (14件)：

H05B33/26 Z , H01L21/285 S , H01L21/28 301R , H01L21/88 N , H01L29/78 616V , H01L29/78 616U , H01L29/78 612C , C22C21/00 A , H05B33/24 , H05B33/14 A , H05B33/10 , G09F9/30 330Z , G09F9/30 338 , G09F9/30 365Z

Fターム (61件)：

3K107AA01 , 3K107BB01 , 3K107CC23 , 3K107CC24 , 3K107CC27 , 3K107CC45 , 3K107DD03 , 3K107DD23 , 3K107DD24 , 3K107DD39 , 3K107DD44X , 3K107DD46X , 3K107EE03 , 3K107EE33 , 3K107FF14 , 3K107FF15 , 3K107GG05 , 4M104BB02 , 4M104BB36 , 4M104BB38 , 4M104DD37 , 4M104DD40 , 4M104FF13 , 4M104GG09 , 4M104HH20 , 5C094AA31 , 5C094AA43 , 5C094BA03 , 5C094BA27 , 5C094BA43 , 5C094DA13 , 5C094EA04 , 5C094EA10 , 5C094EB02 , 5C094ED11 , 5C094FB01 , 5C094FB20 , 5C094JA01 , 5C094JA08 , 5C094JA20 , 5F033HH10 , 5F033HH38 , 5F033JJ38 , 5F033KK10 , 5F033LL09 , 5F033MM05 , 5F033MM08 , 5F033MM13 , 5F033PP15 , 5F033WW04 , 5F033XX18 , 5F110AA26 , 5F110BB01 , 5F110CC01 , 5F110DD02 , 5F110HL03 , 5F110HL06 , 5F110HL07 , 5F110HL11 , 5F110HL23 , 5F110NN71

前のページに戻る