プラズマ処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-208031
公開番号（公開出願番号）：特開2012-064773
出願日： 2010年09月16日
公開日（公表日）： 2012年03月29日
要約：

【課題】処理室内壁に付着する微小異物を低減して生産性を向上する。【解決手段】内部にコーティングを施した真空処理室と、前記真空処理室内に配置され被処理材を前記真空処理室内に保持する載置電極102と、多孔板を有し前記真空処理室内に処理ガスを分散して供給するガス供給系104と、前記真空処理室内を真空排気する排気手段105を備え、前記真空処理室内に高周波電力を供給して、プラズマを生成し前記載置電極上に載置された被処理材にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記コーティング膜は耐プラズマ性の材料を含む膜であり、該膜のスパッタ物に前記コーティング膜を形成する物質が吸収する波長のレーザ光を照射するレーザ光源123を備えた。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

内部にコーティングを施した真空処理室と、前記真空処理室内に配置され被処理材を前記真空処理室内に保持する載置電極と、多孔板を有し前記真空処理室内に処理ガスを分散して供給するガス供給系と、前記真空処理室内を真空排気する排気手段を備え、前記真空処理室内に高周波電力を供給して、プラズマを生成し前記載置電極上に載置された被処理材にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記コーティング膜は耐プラズマ性の材料を含む膜であり、該膜のスパッタ物に前記コーティング膜を形成する物質が吸収する波長を含む波長のレーザ光を照射するレーザ光源を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/306 , H01L 21/31 , H05H 1/46 , C23C 16/44

FI (5件)：

H01L21/302 101H , H01L21/302 101D , H01L21/31 C , H05H1/46 C , C23C16/44 J

Fターム (22件)：

4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030DA06 , 4K030FA01 , 4K030LA15 , 5F004AA15 , 5F004BB03 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BB22 , 5F004DA01 , 5F004DA17 , 5F004DA18 , 5F004DA26 , 5F045AA09 , 5F045BB15 , 5F045DP03 , 5F045DQ10 , 5F045EB06 , 5F045EF05 , 5F045EH03 , 5F045EM05

前のページに戻る