特許

J-GLOBAL ID：201203023091772010

グラフェンシート付き基材及びグラフェンシートの製造方法

発明者： 島田 浩行
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  大浪 一徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-164779
公開番号（公開出願番号）：特開2012-025004
出願日： 2010年07月22日
公開日（公表日）： 2012年02月09日
要約：

【課題】大面積かつ低抵抗のグラフェンシートを備えたグラフェンシート付き基材、及び大面積かつ低抵抗のグラフェンシートを550°C以下という比較的低温にて安価に製造することが可能なグラフェンシートの製造方法を提供する。【解決手段】本発明のグラフェンシート付き基材1は、ガラス基板、金属基板の表面にガラスがコーティングされたガラス被覆金属基板等からなる基板2上に、炭化珪素層等の珪素原子及び炭素原子を含む薄膜層3、Ni等の金属を含むシリサイド層4、グラフェンシート5が順次積層されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に、珪素原子及び炭素原子を含む薄膜層、金属を含むシリサイド層及びグラフェンシートを順次積層してなることを特徴とするグラフェンシート付き基材。

IPC (2件)：

B32B 9/00 ,  C01B 31/04

FI (2件)：

B32B9/00 A ,  C01B31/04 101Z

Fターム (34件)：

4F100AA16B ,  4F100AA20C ,  4F100AA37B ,  4F100AA37D ,  4F100AB01 ,  4F100AB01C ,  4F100AB02C ,  4F100AB11B ,  4F100AB15C ,  4F100AB16C ,  4F100AB17C ,  4F100AB20C ,  4F100AB25C ,  4F100AG00 ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100EH46 ,  4F100EH66 ,  4F100EH66B ,  4F100EJ41B ,  4F100GB41 ,  4F100JM02B ,  4F100JM02D ,  4G146AA02 ,  4G146AB07 ,  4G146AD40 ,  4G146BA08 ,  4G146BA38 ,  4G146BA42 ,  4G146BB22 ,  4G146BC02 ,  4G146BC43 ,  4G146BC44