特許

J-GLOBAL ID：201203023310399664

テーパ穴形成装置、テーパ穴形成方法、光変調手段および変調マスク

発明者： 谷 口 幸 夫
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (5件)： 勝沼 宏仁 ,  永井 浩之 ,  磯貝 克臣 ,  堀田 幸裕 ,  岡村 和郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-176549
公開番号（公開出願番号）：特開2012-035294
出願日： 2010年08月05日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
要約：

【課題】被加工物に、略同一のテーパ角を有する複数のテーパ穴を同時に形成することができるテーパ穴形成装置を提供する。【解決手段】テーパ穴形成装置10は、マスク照明系11からの光を変調して、略円形の等強度線を有する光を被加工物18に照射する光変調手段15を備えている。光変調手段15は、各々がテーパ穴20に対応する変調量分布を有する複数の単位変調手段を有しており、各単位変調手段により変調されて被加工物18に照射される光は各々、テーパ穴20に対応する光強度分布を有する単位階調光50となっている。また、各単位階調光50のうち一の単位階調光50における傾斜部分52の幅wは、その他の単位階調光50のうち少なくとも1つの単位階調光50における傾斜部分52の幅と異なっている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源から出射された光を変調し、変調された光を被加工物に照射することにより、被加工物に貫通部若しくは底部分と、テーパ部とを有する複数のテーパ穴を形成するテーパ穴形成装置において、 光を出射する光源と、 光源の出射側に設けられ、光源からの光を変調して、被加工物に対して光を照射する光変調手段と、を備え、 前記光変調手段は、各々がテーパ穴に対応する変調量分布を有する複数の単位変調手段を有し、 各単位変調手段により変調されて被加工物に照射される光は各々、テーパ穴に対応する光強度分布を有する単位階調光となっており、 各単位階調光は、被加工物においてテーパ穴の貫通部若しくは底部分が形成される領域に照射される中央部分と、前記中央部分の外縁に位置するとともに、被加工物においてテーパ穴のテーパ部が形成される領域に照射され、外方に向かうにつれて光強度が低下する傾斜部分と、前記傾斜部分の外縁に位置する周縁部分と、を含み、 各単位階調光のうち一の単位階調光における傾斜部分の幅は、その他の単位階調光のうち少なくとも1つの単位階調光における傾斜部分の幅と異なっていることを特徴とするテーパ穴形成装置。

IPC (4件)：

B23K 26/38 ,  B23K 26/073 ,  B23K 26/06 ,  G02B 27/46

FI (4件)：

B23K26/38 330 ,  B23K26/073 ,  B23K26/06 J ,  G02B27/46

Fターム (5件)：

4E068AF00 ,  4E068CA17 ,  4E068CB08 ,  4E068CD05 ,  4E068CD10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• ノズルプレートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-045572   出願人：株式会社沖データ
• 特開平4-356392