パターン形状欠陥検査方法及びその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-217076
公開番号（公開出願番号）：特開2012-073073
出願日： 2010年09月28日
公開日（公表日）： 2012年04月12日
要約：

【課題】数秒/枚程度で生産されるパターンドメディアを全面を全数に亘って検査することを可能にするパターンドメディアの形状欠陥検査方法及びその装置を提供する。【解決手段】基板に形成された寸法が100nm以下の繰り返しパターンを検査する方法において、基板に複数の波長成分を含む光を照射し、この光を照射した基板からの反射光を分光して検出し、この分光して検出して得た信号を処理して分光反射率を求め、この求めた分光反射率から評価値を算出し、予め求めておいた評価値とパターン断面形状との関係に基づいて分光反射率から算出した評価値からパターンの形状欠陥を判定するようにした。【選択図】図14

請求項（抜粋）：

基板に形成された寸法が100nm以下の繰り返しパターンを検査する方法であって、前記基板に複数の波長成分を含む光を照射し、該光を照射した前記基板からの反射光を分光して検出し、該分光して検出して得た信号を処理して分光反射率を求め、該求めた分光反射率から評価値を算出し、予め求めておいた評価値とパターン断面形状との関係に基づいて前記分光反射率から算出した評価値からパターンの形状欠陥を判定することを特徴とするパターン形状欠陥検査方法。

IPC (3件)：

G01N 21/95 , G01N 21/27 , G01B 11/30

FI (3件)：

G01N21/95 A , G01N21/27 B , G01B11/30 A

Fターム (53件)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065FF41 , 2F065GG23 , 2F065LL67 , 2F065PP12 , 2F065QQ13 , 2F065QQ25 , 2F065QQ26 , 2F065QQ42 , 2F065RR03 , 2G051AA71 , 2G051AB02 , 2G051AC21 , 2G051BA01 , 2G051BA05 , 2G051BA06 , 2G051BA10 , 2G051BA11 , 2G051BB01 , 2G051BB03 , 2G051BB07 , 2G051BB11 , 2G051CA07 , 2G051CB01 , 2G051CC07 , 2G051CC09 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051EA14 , 2G051EA23 , 2G051EB01 , 2G059AA03 , 2G059AA05 , 2G059BB10 , 2G059BB16 , 2G059EE02 , 2G059EE12 , 2G059FF03 , 2G059FF08 , 2G059GG01 , 2G059GG03 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH03 , 2G059JJ01 , 2G059JJ07 , 2G059JJ11 , 2G059JJ14 , 2G059JJ19 , 2G059JJ22 , 2G059MM01 , 2G059MM05

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