特許
J-GLOBAL ID:201203025231351748
高撥水構造の形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
富田 友樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-163315
公開番号(公開出願番号):特開2012-011762
出願日: 2010年06月30日
公開日(公表日): 2012年01月19日
要約:
【課題】撥水剤の塗布や混練することなく、かつ特殊な加工設備・金型を必要とせず、簡単な工程で加硫ゴムの表面に高撥水構造を形成する方法を提供する。【解決手段】ゴムの加硫成形工程において、メッシュシート2の構造をゴム組成物3の表面へ転写し、加硫ゴム表面に高撥水構造を形成する。メッシュシートのメッシュ数が150〜508メッシュである。メッシュシートのオープニングが20〜120μmである。メッシュシートのオープニングエリアが20〜50%である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
加硫成形工程において、メッシュシートの構造をゴム組成物の表面へ転写することを特徴とする高撥水構造の形成方法。
IPC (3件):
B29C 35/02
, B29C 59/02
, B29C 33/02
FI (3件):
B29C35/02
, B29C59/02 Z
, B29C33/02
Fターム (36件):
4F202AA16
, 4F202AA45
, 4F202AB03
, 4F202AF01
, 4F202AG05
, 4F202AJ08
, 4F202AR12
, 4F202AR20
, 4F202CA19
, 4F202CB01
, 4F202CK42
, 4F203AA16
, 4F203AA45
, 4F203AB03
, 4F203AF01
, 4F203AG05
, 4F203AJ08
, 4F203AR12
, 4F203AR20
, 4F203DA11
, 4F203DB01
, 4F203DC01
, 4F203DF01
, 4F203DL10
, 4F209AA16
, 4F209AA45
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AG21
, 4F209AG28
, 4F209AJ03
, 4F209AJ08
, 4F209AJ11
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
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