特許
J-GLOBAL ID:201203025347104349

界面活性剤組成物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (6件): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-018785
公開番号(公開出願番号):特開2012-158674
出願日: 2011年01月31日
公開日(公表日): 2012年08月23日
要約:
【課題】カチオン性高分子を含有する界面活性剤組成物において生じやすい糸曳きが抑制された(曳糸性の低い)界面活性剤組成物の製造方法を提供すること。【解決手段】陰イオン界面活性剤(a)と、両性界面活性剤(b)と、カチオン基を有する高分子(c)と、水とを含有する界面活性剤組成物の製造方法において、前記(a)成分と前記(b)成分と水とを混合して界面活性剤混合物を得る工程(1)と、前記(c)成分と水とを混合して5質量%以下の高分子分散液を得る工程(2)と、前記界面活性剤混合物と前記高分子分散液とを混合する工程(3)とを有する、界面活性剤組成物の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
陰イオン界面活性剤(a)と、両性界面活性剤(b)と、カチオン基を有する高分子(c)と、水とを含有する界面活性剤組成物の製造方法において、 前記(a)成分と前記(b)成分と水とを混合して界面活性剤混合物を得る工程(1)と、 前記(c)成分と水とを混合して5質量%以下の高分子分散液を得る工程(2)と、 前記界面活性剤混合物と前記高分子分散液とを混合する工程(3)とを有する、界面活性剤組成物の製造方法。
IPC (8件):
C11D 11/00 ,  A61K 8/46 ,  A61K 8/44 ,  A61K 8/81 ,  A61K 8/73 ,  A61Q 19/10 ,  A61Q 5/02 ,  C11D 3/37
FI (8件):
C11D11/00 ,  A61K8/46 ,  A61K8/44 ,  A61K8/81 ,  A61K8/73 ,  A61Q19/10 ,  A61Q5/02 ,  C11D3/37
Fターム (44件):
4C083AB442 ,  4C083AC302 ,  4C083AC312 ,  4C083AC392 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC692 ,  4C083AC711 ,  4C083AC712 ,  4C083AC781 ,  4C083AC782 ,  4C083AC792 ,  4C083AC842 ,  4C083AC852 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD532 ,  4C083BB05 ,  4C083BB07 ,  4C083BB34 ,  4C083CC23 ,  4C083CC38 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083EE03 ,  4C083EE07 ,  4C083FF01 ,  4H003AB31 ,  4H003AD04 ,  4H003AE05 ,  4H003BA13 ,  4H003CA15 ,  4H003DA02 ,  4H003EA27 ,  4H003EB07 ,  4H003EB08 ,  4H003EB09 ,  4H003EB28 ,  4H003EB37 ,  4H003ED02 ,  4H003FA12 ,  4H003FA26
引用特許:
審査官引用 (7件)
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