特許

J-GLOBAL ID：201203025651737064

グラフェン導電膜の製造方法

発明者： 姜 開利 ,  林 曉陽 ,  肖 林 ,  ▲ハン▼ 守善
出願人/特許権者： ツィンファ ユニバーシティ ,  鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司
代理人 (4件)： 村山 靖彦 ,  志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-190460
公開番号（公開出願番号）：特開2012-246212
出願日： 2011年09月01日
公開日（公表日）： 2012年12月13日
要約：

【課題】本発明は、グラフェン導電膜の製造方法に関するものである。【解決手段】本発明のグラフェン導電膜の製造方法は、第一表面及び該第一表面に対向する第二表面を有する金属基材を提供する第一ステップと、前記金属基材の第一表面にグラフェン構造体を成長させる第二ステップと、エッチングによって、前記金属基材をパターニングして電極を形成させる第三ステップと、を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第一表面及び該第一表面に対向する第二表面を有する金属基材を提供する第一ステップと、 前記金属基材の第一表面にグラフェン構造体を成長させる第二ステップと、 エッチングによって、前記金属基材をパターニングして複数の電極を形成させる第三ステップと、 を含むことを特徴とするグラフェン導電膜の製造方法。

IPC (1件)：

C01B 31/02

FI (1件)：

C01B31/02 101Z

Fターム (17件)：

4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC25B ,  4G146AC30B ,  4G146AD22 ,  4G146AD23 ,  4G146AD28 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC25 ,  4G146BC27 ,  4G146BC33B ,  4G146BC34B ,  4G146BC37B ,  4G146BC38B