特許
J-GLOBAL ID：201203027273520089

処理装置、耐食性部材および耐食性部材の製造方法

発明者：
大槻 林

大槻 林 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-158335
公開番号（公開出願番号）：特開2012-018928
出願日： 2011年07月19日
公開日（公表日）： 2012年01月26日
要約：
【課題】処理容器内壁の腐食の問題が生じ難い処理装置を提供すること。また、耐プラズマ性および耐腐食ガス性に優れた、処理装置に用いられる耐食性部材およびその製造方法を提供すること。【解決手段】被処理基板を収容する処理容器と、処理容器内の被処理基板に処理を施す処理機構とを具備する処理装置であって、処理容器は、基材と、その内壁に溶射により形成された周期律表第3a族素化合物を含む膜とを具備し、その溶射により形成された周期律表第3a族元素化合物を含む膜の表面が研磨されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理基板を収容する処理容器と、 前記処理容器内の被処理基板に処理を施す処理機構と を具備する処理装置であって、 前記処理容器は、基材と、その内壁に溶射により形成された周期律表第3a族素化合物を含む膜とを具備し、前記溶射により形成された周期律表第3a族元素化合物を含む膜の表面が研磨されていることを特徴とする処理装置。
IPC (7件)：
H05H 1/46 ,  C23C 16/509 ,  C23C 16/507 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  C23C 4/10
FI (10件)：
H05H1/46 L ,  C23C16/509 ,  C23C16/507 ,  H01L21/285 C ,  H01L21/302 101C ,  H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/31 C ,  H05H1/46 M ,  C23C4/10
Fターム (52件)：
4K030AA03 ,  4K030AA13 ,  4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030FA04 ,  4K030KA08 ,  4K030KA47 ,  4K030LA15 ,  4K031AA01 ,  4K031AB02 ,  4K031CB42 ,  4K031CB43 ,  4K031CB49 ,  4K031DA04 ,  4K031FA04 ,  4M104BB14 ,  4M104BB17 ,  4M104BB30 ,  4M104BB32 ,  4M104BB36 ,  4M104DD44 ,  4M104DD45 ,  4M104HH20 ,  5F004AA15 ,  5F004BA04 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004CA06 ,  5F045AA08 ,  5F045AB31 ,  5F045AB33 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045DP04 ,  5F045EB03 ,  5F045EF02 ,  5F045EF05 ,  5F045EH11 ,  5F045EH14 ,  5F045EJ03 ,  5F045EJ09 ,  5F045EJ10 ,  5F045EK07 ,  5F045EK14 ,  5F045EM05
引用特許：
審査官引用 (14件)
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