特許
J-GLOBAL ID:201203029203063767

シリコン基板の検査装置および検査方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 酒井 宏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-049434
公開番号(公開出願番号):特開2012-185091
出願日: 2011年03月07日
公開日(公表日): 2012年09月27日
要約:
【課題】シリコン基板の内部に存在するクラック等の欠陥を正確に検出可能とする、シリコン基板の検査装置および検査方法を得ること。【解決手段】赤外照明手段1とシリコン基板5との間の光路中に設けられ、直線偏光成分4を射出する第1の直線偏光フィルタ3と、シリコン基板5を透過した直線偏光成分4’を撮像する第1の撮像手段9および第2の撮像手段11と、シリコン基板5と第1の撮像手段9との間の光路中に設けられ、シリコン基板5の基板面に平行な方向に偏光方向が設定された第2の直線偏光フィルタ8と、シリコン基板5と第2の撮像手段11との間の光路中に設けられ、基板面に垂直な方向に偏光方向が設定された第3の直線偏光フィルタ10と、第1の撮像手段9から入力された画像データと、第2の撮像手段11から入力された画像データとを比較演算する画像処理手段12と、を有する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
被検査体であるシリコン基板へ向けて赤外照明光を供給する赤外照明手段と、 前記赤外照明手段と前記シリコン基板との間の光路中に設けられ、前記赤外照明光のうち、前記シリコン基板へ照射させる直線偏光成分を射出する第1の直線偏光フィルタと、 前記シリコン基板を透過した前記直線偏光成分を撮像する第1の撮像手段および第2の撮像手段と、 前記シリコン基板と前記第1の撮像手段との間の光路中に設けられ、前記シリコン基板の基板面に平行な方向に偏光方向が設定された第2の直線偏光フィルタと、 前記シリコン基板と前記第2の撮像手段との間の光路中に設けられ、前記基板面に垂直な方向に偏光方向が設定された第3の直線偏光フィルタと、 前記第1の撮像手段から入力された画像データと、前記第2の撮像手段から入力された画像データとを比較演算する画像処理手段と、 を有することを特徴とするシリコン基板の検査装置。
IPC (2件):
G01N 21/956 ,  G01N 21/88
FI (2件):
G01N21/956 A ,  G01N21/88 H
Fターム (11件):
2G051AA51 ,  2G051AB06 ,  2G051BA06 ,  2G051BA11 ,  2G051BB07 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CB02 ,  2G051CC07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA16
引用特許:
審査官引用 (6件)
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