特許
J-GLOBAL ID:201203030859002703
ジルコニア焼結体、並びにその焼結用組成物及び仮焼体
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
加藤 朝道
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-185586
公開番号(公開出願番号):特開2012-041239
出願日: 2010年08月20日
公開日(公表日): 2012年03月01日
要約:
【課題】低温劣化を抑制することが可能なジルコニア焼結体を提供すること、並びに、該ジルコニア焼結体の前駆体となる焼結用組成物及び仮焼体を提供すること。【解決手段】ジルコニア焼結体の焼成面におけるX線回折パターンにおいて、正方晶由来の[200]ピークが生ずる位置付近に存在するピークの高さに対する立方晶由来の[200]ピークが生ずる位置付近に存在するピークの高さの比が0.4以上であり、焼成面からの深さが100μm以上の領域におけるX線回折パターンにおいて、正方晶由来の[200]ピークが生ずる位置付近に存在するピークの高さに対する立方晶由来の[200]ピークが生ずる位置付近に存在するピークの高さの比が0.3以下である。【選択図】図18
請求項(抜粋):
焼成面におけるX線回折パターンにおいて、正方晶由来の[200]ピークが生ずる位置付近に存在するピークの高さに対する立方晶由来の[200]ピークが生ずる位置付近に存在するピークの高さの比が0.4以上であり、
焼成面からの深さが100μm以上の領域におけるX線回折パターンにおいて、正方晶由来の[200]ピークが生ずる位置付近に存在するピークの高さに対する立方晶由来の[200]ピークが生ずる位置付近に存在するピークの高さの比が0.3以下であることを特徴とするジルコニア焼結体。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
4G031AA08
, 4G031AA13
, 4G031AA28
, 4G031AA29
, 4G031AA30
, 4G031AA33
, 4G031BA19
, 4G031BA20
, 4G031BA28
, 4G031CA01
, 4G031GA11
引用特許:
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