特許
J-GLOBAL ID:201203033128949760

グラフェンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 木村 満 ,  末次 渉 ,  鶴 寛 ,  毛受 隆典
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-095542
公開番号(公開出願番号):特開2012-224526
出願日: 2011年04月21日
公開日(公表日): 2012年11月15日
要約:
【課題】安全に、容易に且つ安価に製造できるグラフェンの製造方法を提供する。【解決手段】グラフェンの製造方法は、表面にグラフェン酸化物層が積層された導電性基材を、有機溶媒及び支持電解質を含有する電解液中に浸漬する。そして、導電性基材の電位を負側に印加して、グラフェン酸化物を電気化学還元してグラフェンを得る。グラフェン酸化物を低電圧で容易に還元することができ、グラフェンを安全、容易且つ安価に製造できる。【選択図】図8
請求項(抜粋):
表面にグラフェン酸化物層が積層された導電性基材を、有機溶媒及び支持電解質を含有する電解液中に浸漬し、 前記導電性基材の電位を負側に印加して、グラフェン酸化物を電気化学還元する、 ことを特徴とするグラフェンの製造方法。
IPC (1件):
C01B 31/02
FI (1件):
C01B31/02 101Z
Fターム (11件):
4G146AA01 ,  4G146AB07 ,  4G146AC16B ,  4G146AD10 ,  4G146AD24 ,  4G146BA38 ,  4G146BA42 ,  4G146BB05 ,  4G146BB23 ,  4G146BC18 ,  4G146BC21
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
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