特許
J-GLOBAL ID:201203033128949760
グラフェンの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
木村 満
, 末次 渉
, 鶴 寛
, 毛受 隆典
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-095542
公開番号(公開出願番号):特開2012-224526
出願日: 2011年04月21日
公開日(公表日): 2012年11月15日
要約:
【課題】安全に、容易に且つ安価に製造できるグラフェンの製造方法を提供する。【解決手段】グラフェンの製造方法は、表面にグラフェン酸化物層が積層された導電性基材を、有機溶媒及び支持電解質を含有する電解液中に浸漬する。そして、導電性基材の電位を負側に印加して、グラフェン酸化物を電気化学還元してグラフェンを得る。グラフェン酸化物を低電圧で容易に還元することができ、グラフェンを安全、容易且つ安価に製造できる。【選択図】図8
請求項(抜粋):
表面にグラフェン酸化物層が積層された導電性基材を、有機溶媒及び支持電解質を含有する電解液中に浸漬し、
前記導電性基材の電位を負側に印加して、グラフェン酸化物を電気化学還元する、
ことを特徴とするグラフェンの製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (11件):
4G146AA01
, 4G146AB07
, 4G146AC16B
, 4G146AD10
, 4G146AD24
, 4G146BA38
, 4G146BA42
, 4G146BB05
, 4G146BB23
, 4G146BC18
, 4G146BC21
引用特許: