レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、および酸発生剤

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-161090
公開番号（公開出願番号）：特開2012-022212
出願日： 2010年07月15日
公開日（公表日）： 2012年02月02日
要約：

【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】一般式(b1)で表される化合物;該酸発生剤;酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分及び露光により酸を発生する酸発生剤成分が一般式(b1)で表される化合物であるレジスト組成物。式中、R1は、水素原子、炭素数1〜10の直鎖状、分岐鎖状若しくは環状のアルキル基、又は、複素環式基を示し;R2は、炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し;xは0〜6の整数であり;nは0〜3の整数であり;X-はアニオンを示す。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。

IPC (13件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07C 309/12 , C07C 311/51 , C07C 311/48 , C07C 309/10 , C07C 309/09 , C07C 309/07 , C07C 309/06 , C07C 309/17 , C09K 3/00 , H01L 21/027 , C07D 333/16

FI (13件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07C309/12 , C07C311/51 , C07C311/48 , C07C309/10 , C07C309/09 , C07C309/07 , C07C309/06 , C07C309/17 , C09K3/00 K , H01L21/30 502R , C07D333/16

Fターム (35件)：

2H125AF18P , 2H125AF21P , 2H125AF33P , 2H125AF35P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AH17 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN51P , 2H125AN64P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 4C023AA05 , 4C023BA07 , 4C055AA01 , 4C055BA01 , 4C055CA01 , 4C055DA33 , 4C055DB02 , 4C055DB08 , 4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB76 , 4H006AB92

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