プラズマ処理装置及び方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：内藤浩樹 , 永野大介 , 藤井兼太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-196391
公開番号（公開出願番号）：特開2012-054132
出願日： 2010年09月02日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができ、かつ、再現性に優れたプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的としている。【解決手段】プラズマトーチユニットTにおいて、螺旋形の導体棒3が石英管4の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック5が配置されている。筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、導体棒3に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内にプラズマを発生させ、基材2に照射する。真鍮ブロック5は開口部12を先端として先細形状に構成され、放射光の光軸43が真鍮ブロック5によって遮られない位置に、基材2の表面温度を測定するための放射温度計受光部42が配置されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

スリット状の開口部を備える筒状チャンバと、前記チャンバ内にガスを供給するガス導入口と、前記チャンバ内に高周波電磁界を発生させるコイルと、前記コイルに高周波電力を供給する高周波電源と、前記開口部と対向して配置され、かつ基材を保持する基材載置台と、を有するプラズマ処理装置において、前記筒状チャンバの長手方向と前記開口部の長手方向とは平行に配置され、前記開口部の長手方向に対して垂直な向きに、前記チャンバと前記基材載置台とを相対的に移動可能とする移動機構を備え、前記筒状チャンバの外形は、前記基材載置台に近づくほど、前記筒状チャンバの長手方向に垂直で、かつ、前記基材載置台に平行な方向の幅が小さく、放射温度計の受光部が、前記筒状チャンバの外側の位置で、かつ、前記放射温度計と前記基材載置台上に基材が載置されるべき位置とを結ぶ線分、すなわち、温度測定のための放射光の光軸が、前記筒状チャンバによって遮られない位置に配置されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (9件)：

H05H 1/24 , H05H 1/30 , H01L 21/31 , H01L 21/306 , C23C 16/453 , C23C 16/505 , C23C 16/52 , H01L 21/304 , H01L 21/20

FI (12件)：

H05H1/24 , H05H1/30 , H01L21/31 C , H01L21/31 E , H01L21/302 101C , H01L21/302 101E , C23C16/453 , C23C16/505 , C23C16/52 , H01L21/304 645C , H01L21/304 648G , H01L21/20

Fターム (57件)：

4K030CA06 , 4K030CA12 , 4K030FA04 , 4K030GA04 , 4K030HA13 , 4K030KA30 , 4K030LA16 , 5F004AA01 , 5F004BA03 , 5F004BA20 , 5F004BB13 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004BD07 , 5F004DA01 , 5F004DA02 , 5F004DA03 , 5F004DA18 , 5F004DB01 , 5F045AA08 , 5F045AB02 , 5F045AB32 , 5F045AC01 , 5F045AC07 , 5F045AC11 , 5F045AC16 , 5F045AC18 , 5F045AE29 , 5F045BB02 , 5F045BB08 , 5F045DP02 , 5F045DQ10 , 5F045EB02 , 5F045EH10 , 5F045EH11 , 5F045EH18 , 5F045EJ05 , 5F152BB02 , 5F152BB09 , 5F152CC02 , 5F152CE05 , 5F152CE18 , 5F152FF20 , 5F152FF28 , 5F152FH01 , 5F157AA28 , 5F157AA42 , 5F157AB02 , 5F157AB12 , 5F157AB33 , 5F157BG32 , 5F157BG33 , 5F157BG37 , 5F157DB11 , 5F157DB14 , 5F157DB43 , 5F157DB45

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