基板処理装置及び基板処理装置のクリーニング方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-148012
公開番号（公開出願番号）：特開2012-015195
出願日： 2010年06月29日
公開日（公表日）： 2012年01月19日
要約：

【課題】蒸着重合によるポリイミドの成膜に適した基板処理装置を提供する。【解決手段】真空ポンプにより排気可能なチャンバーとなる外部管と、前記外部管内に設けられており、内部に基板が設置される内部管と、前記内部管内にガスを導入するためのガス供給部と、前記基板、前記外部管、前記内部管を加熱するためのヒーターと、前記外部管と前記内部管との間に設けられたトラップ部と、を有し、前記基板を前記ヒーターにより第1の温度に加熱することにより、前記ガス供給部から供給されたガスが蒸着重合反応し、前記基板表面において前記蒸着重合反応によりに生成された膜が成膜され、前記内部管に設けられた開口部から流入した前記ガスにより、前記トラップ部においても、前記蒸着重合反応により生成された膜が成膜されることを特徴とする基板処理装置により上記課題を解決する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空ポンプにより排気可能なチャンバーとなる外部管と、前記外部管内に設けられており、内部に基板が設置される内部管と、前記内部管内にガスを導入するためのガス供給部と、前記基板、前記外部管、前記内部管を加熱するためのヒーターと、前記外部管と前記内部管との間に設けられたトラップ部と、を有し、前記基板を前記ヒーターにより第1の温度に加熱することにより、前記ガス供給部から供給されたガスが蒸着重合反応し、前記基板表面において前記蒸着重合反応によりに生成された膜が成膜され、前記内部管に設けられた開口部から流入した前記ガスにより、前記トラップ部においても、前記蒸着重合反応により生成された膜が成膜されることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/31 , C23C 16/44

FI (2件)：

H01L21/31 B , C23C16/44 J

Fターム (39件)：

4K030AA01 , 4K030BA35 , 4K030CA04 , 4K030CA17 , 4K030DA06 , 4K030EA06 , 4K030FA10 , 4K030GA06 , 4K030KA04 , 4K030KA09 , 4K030KA22 , 4K030KA23 , 4K030LA15 , 5F004AA15 , 5F004BD04 , 5F004DA26 , 5F004DB23 , 5F004EA35 , 5F045AB39 , 5F045AC07 , 5F045AD05 , 5F045AD06 , 5F045AF03 , 5F045BB08 , 5F045CB04 , 5F045CB05 , 5F045DP19 , 5F045DP28 , 5F045DQ05 , 5F045EB06 , 5F045EC02 , 5F045EF03 , 5F045EF08 , 5F058AA10 , 5F058AC02 , 5F058AD04 , 5F058AF01 , 5F058AH02 , 5F058AH03

引用特許：

審査官引用 (4件)

成膜装置およびその排気トラップ
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-341828 出願人：株式会社日立製作所, 国際電気株式会社
基板の熱処理装置およびそれを備える薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-358719 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
成膜装置及び成膜方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2008-032160 出願人：東京エレクトロン株式会社

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