特許
J-GLOBAL ID：201203035762657030
光安定性ポリマー終点検出窓を有するケミカルメカニカルポリッシングパッドおよびそれを用いた研磨方法
アダム・ロヤック
, アダム・ロヤック について
アラン・ナカタニ
, アラン・ナカタニ について
メアリー・ジョー・カルプ
, メアリー・ジョー・カルプ について
デービッド・ジー.ケリー
デービッド・ジー.ケリー について
出願人/特許権者：
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ シーエムピー ホウルディングス インコーポレイテッド について
代理人 (1件)： 津国 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-205548
公開番号（公開出願番号）：特開2012-071416
出願日： 2011年09月21日
公開日（公表日）： 2012年04月12日
要約：
【課題】磁性基板、光学基板および半導体基板から選択される基板を研磨するのに適している、ケミカルメカニカルポリッシングパッドを提供する。【解決手段】アミン部分の未反応-NCO部分に対する化学量論比が95%未満で前記芳香族ポリアミンおよびイソシアネート末端プレポリマーポリオールが提供され、前記光安定性ポリマー終点検出窓が、1kPaの一定軸引張荷重で60°C一定温度で100分で測定したときに0.02%以下の時間依存性歪みを示し、厚み1.3mmの窓について波長380nmにおいて、15%以上の光学複光路透過率(optical double pass transmission)を示し、かつ研磨表面が、磁性基板、光学基板および半導体基板から選択される基板を研磨するのに適している、ケミカルメカニカルポリッシングパッド。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
研磨表面を有する研磨層と、
アミン部分を含む芳香族ポリアミンおよび未反応-NCO部分を含むイソシアネート末端プレポリマーポリオールのポリウレタン反応生成物、ならびに紫外線吸収剤およびヒンダードアミン系光安定剤のうち少なくとも1つを含む光安定剤成分を含む光安定性ポリマー終点検出窓と
を含むケミカルメカニカルポリッシングパッドであって、
前記芳香族ポリアミンおよびイソシアネート末端プレポリマーポリオールが、未反応-NCO部分に対するアミン部分の化学量論比が95%未満で提供され、
前記光安定性ポリマー終点検出窓が、1kPaの一定軸引張荷重で60°C一定温度で100分で測定したときに0.02%以下の時間依存性歪みを示し、厚み1.3mmの窓について波長380nmにおいて、15%以上の光学複光路透過率(optical double pass transmission)を示し、かつ
前記研磨表面が、磁性基板、光学基板および半導体基板から選択される基板を研磨するのに適している、
ケミカルメカニカルポリッシングパッド。
IPC (4件)：
FI (5件)：
Fターム (26件)：
3C034AA13
, 3C034AA17
, 3C034BB93
, 3C034CA22
, 3C034CB01
, 3C034DD10
, 3C034DD20
, 3C058AA07
, 3C058AC02
, 3C058BA09
, 3C058CB03
, 3C058CB10
, 3C058DA12
, 3C058DA17
, 5F057AA20
, 5F057AA24
, 5F057BA21
, 5F057BA24
, 5F057BB23
, 5F057DA03
, 5F057EB06
, 5F057EB08
, 5F057EB12
, 5F057GA12
, 5F057GB02
, 5F057GB20
引用特許：
出願人引用 (4件)
-
応力が軽減した窓を有する研磨パッド
公報種別：公開公報 出願番号：特願2005-170479 出願人：ロームアンドハースエレクトロニックマテリアルズシーエムピーホウルディングスインコーポレイテッド -
研磨パッド
公報種別：公開公報 出願番号：特願2006-137356 出願人：東洋ゴム工業株式会社 -
研磨パッド及び半導体デバイスの製造方法
公報種別：公開公報 出願番号：特願2003-000331 出願人：東洋紡績株式会社, 東洋ゴム工業株式会社
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