特許
J-GLOBAL ID：201203035822072150
インプリント方法とこれに用いる転写基材および密着剤
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
米田 潤三
, 皿田 秀夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-236181
公開番号（公開出願番号）：特開2012-086484
出願日： 2010年10月21日
公開日（公表日）： 2012年05月10日
要約：
【課題】モールドと樹脂層との離型時の転写欠陥の発生を防止したインプリント方法と、このようなインプリント方法を可能とする転写基材、密着剤を提供する。【解決手段】インプリント方法を、密着層形成工程にて、1個の加水分解性基と2個の不活性基とを有する4価の原子と該原子に結合した反応性官能基とを1分子中に有する化合物を含有する密着剤を、基材に接触させ、その後、洗浄することにより、基材に密着層を形成して転写基材を作製し、充填工程にて、モールドと密着層との間に被加工物が介在するようしてモールドと転写基材とを近接させ被加工物をモールドの転写形状部に充填し、硬化工程にて、被加工物を硬化させ、離型工程にて、被加工物からモールドを引き離すような各工程を有するものとした。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
所望の形状の転写形状部を有するモールドと転写基材との間に被加工物を介在させ、該被加工物に前記転写形状部の形状を転写するインプリント方法において、
基材に密着層を形成して転写基材を作製する密着層形成工程と、
前記モールドと前記密着層との間に前記被加工物が介在するようして前記モールドと前記転写基材とを近接させ前記被加工物を前記転写形状部に充填する充填工程と、
前記被加工物を硬化させる硬化工程と、
前記被加工物から前記モールドを引き離す離型工程と、を有し、
前記密着層形成工程は、1個の加水分解性基と2個の不活性基とを有する4価の原子と該原子に結合した反応性官能基とを1分子中に有する化合物を含有する密着剤を、前記基材に接触させ、その後、洗浄する工程を有するものであることを特徴とするインプリント方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/02 Z
, H01L21/30 502D
4F209AA33
, 4F209AF01
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PN06
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
, 5F146AA28
