特許

J-GLOBAL ID：201203037551816836

インプリントリソグラフィ装置及び方法

発明者： 三井 壮一郎
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 藤原 康高
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-223172
公開番号（公開出願番号）：特開2012-079887
出願日： 2010年09月30日
公開日（公表日）： 2012年04月19日
要約：

【課題】 本発明の実施形態によれば、パターン不良の少ないインプリントリソグラフィ装置及び方法を提供することができる。【解決手段】 テンプレートに形成されたパターンサイズに基づいてパターン形成剤に含まれる、離型剤及びレジスト剤の混合比を計算する計算部と、前記計算部の計算結果に基づいて前記レジスト剤及び前記離型剤の混合する混合器と、前記混合器から前記パターン形成剤を前記基板上に滴下するノズルと、前記基板上に滴下された前記パターン形成剤を前記テンプレートで押下後に前記パターン形成剤に光を照射する照射装置と、を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

テンプレートに形成されたパターンサイズに基づいてパターン形成剤に含まれる、離型剤及びレジスト剤の混合比を計算する計算部と、 前記計算部の計算結果に基づいて前記レジスト剤及び前記離型剤を混合する混合器と、 前記混合器から前記パターン形成剤を前記基板上に滴下するノズルと、 前記基板上に滴下された前記パターン形成剤を前記テンプレートで押下後に前記パターン形成剤に光を照射する照射装置と、 を備えることを特徴とするインプリントリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (3件)：

H01L21/30 502D ,  H01L21/30 564Z ,  B29C59/02 Z

Fターム (20件)：

4F209AA44 ,  4F209AB01 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PJ06 ,  4F209PJ26 ,  4F209PN06 ,  4F209PN09 ,  4F209PN13 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28 ,  5F046JA01 ,  5F046JA02 ,  5F146AA28 ,  5F146JA01 ,  5F146JA02