特許
J-GLOBAL ID：201203038169629402
極端紫外光生成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-049687
公開番号（公開出願番号）：特開2012-169580
出願日： 2011年03月07日
公開日（公表日）： 2012年09月06日
要約：
【課題】チャンバ内に配置された光学要素の性能劣化を防止する。【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置と共に用いられ、外部装置に極端紫外光を供給するよう接続される極端紫外光生成装置であって、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも1つの入射口を有するチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内で前記ターゲット物質が前記レーザ光に照射される際に放出されて前記少なくとも1つの光学要素に付着した前記ターゲット物質のデブリをエッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部と、前記チャンバに接続される排気ポンプと、前記チャンバ内に配置される少なくとも1つの光学要素と、前記少なくとも1つの光学要素の温度を制御する少なくとも1つの温度調節機構と、を備えてもよい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザ装置と共に用いられ、外部装置に極端紫外光を供給するよう接続される極端紫外光生成装置であって、
レーザ光を内部に入射させるための少なくとも1つの入射口を有するチャンバと、
前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、
前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内で前記ターゲット物質が前記レーザ光に照射される際に放出されて前記少なくとも1つの光学要素に付着した前記ターゲット物質のデブリをエッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部と、
前記チャンバに接続される排気ポンプと、
前記チャンバ内に配置される少なくとも1つの光学要素と、
前記少なくとも1つの光学要素の温度を制御する少なくとも1つの温度調節機構と、
を備える極端紫外光生成装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531S
, H05G1/00 K
4C092AA06
, 4C092AA15
, 4C092AB19
, 4C092AC09
, 4C092BD05
, 4C092BD18
, 4C092BD20
, 5F046GC03
, 5F146GC11
