特許
J-GLOBAL ID：201203041613954022
ポジ型撥液レジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
鮫島 睦
, 田村 恭生
, 新免 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-088758
公開番号（公開出願番号）：特開2012-220860
出願日： 2011年04月13日
公開日（公表日）： 2012年11月12日
要約：
【課題】保存安定性がよく、成膜時に異物の発生が無く、撥液性に優れたポジ型撥液レジスト組成物の提供。【解決手段】(a1)炭素数4〜6のフルオロアルキル基(炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい)を有するα位置換アクリレート100重量部、(a2)不飽和有機酸40〜80重量部(a3)エポキシ基含有モノマー15〜80重量部および(a4)(R1O)nR2で示されるアルキレンオキシ基を含有するモノマー60〜80重量部を繰り返し単位とするフッ素系ポリマー(A)を含有し、フッ素系ポリマー(A)のフッ素濃度が15〜40重量%、酸価が10〜200mgKOH/gおよび重量平均分子量が3,000〜20,000である撥液レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
撥液レジスト組成物であって、
(a1)炭素数4〜8のフルオロアルキル基[炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい]を有するα位置換アクリレート[α位の置換基は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基(但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子または塩素原子)、シアノ基、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のフルオロアルキル基、置換もしくは非置換のベンジル基、置換もしくは非置換のフェニル基、または炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状アルキル基である]100重量部、
(a2)不飽和有機酸[酸性基は酸エステル形成基で保護されていてもよい]30〜60重量部、
(a3)エポキシ基含有モノマー 10〜25重量部、および
(a4)(R1O)nR2[R1は-(CH2)2-または-(CH2)3-、R2は水素またはメチル基、nは1〜10である]で示されるアルキレンオキシ基を含有するモノマー 40〜80重量部
を繰り返し単位とするフッ素系ポリマー(A)を含有し、
フッ素系ポリマー(A)のフッ素濃度が15〜40重量%および重量平均分子量が3,000〜20,000であるポジ型撥液レジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/033
, G03F 7/021
, G03F 7/016
, G03F 7/032
G03F7/033
, G03F7/021
, G03F7/016
, G03F7/032 501
2H125AE13P
, 2H125AF03P
, 2H125AM22P
, 2H125AM23P
, 2H125AM25P
, 2H125AM27P
, 2H125AM32P
, 2H125AM80P
, 2H125AN25P
, 2H125AN39P
, 2H125BA32P
, 2H125CA12
, 2H125CB06
, 2H125CC03
, 2H125CC21
, 2H125CD06P
, 2H125CD08P
, 2H125CD38
