特許

J-GLOBAL ID：201203041849660267

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  坂本 宏 ,  向井 優一
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-114763
公開番号（公開出願番号）：特開2012-008553
出願日： 2011年05月23日
公開日（公表日）： 2012年01月12日
要約：

【課題】広い露光マージン、低いマスクエラーファクターでパターンを形成することができ、優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(X)で表される化合物及び式(Y)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有するレジスト組成物。[式中、Rx1は、水素原子、フッ素原子、飽和環状炭化水素基等;Xx1は、単結合又はアルカンジイル基等;Xx2は、-O-、-S-等;Rx2、Rx3及びRx4は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又は芳香族炭化水素基等を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂と、酸発生剤と、式(X)で表される化合物及び式(Y)で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種とを含有するレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (32件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL11 ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN86P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4C063AA01 ,  4C063BB08 ,  4C063CC71 ,  4C063CC72 ,  4C063CC87 ,  4C063DD25 ,  4C063EE10 ,  4H006AA03 ,  4H006AB81