特許

J-GLOBAL ID：201203042355527862

新規銅錯体及びその利用

発明者： 吉田 拡人 ,  大下 浄治
出願人/特許権者： 国立大学法人広島大学
代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-278172
公開番号（公開出願番号）：特開2012-126665
出願日： 2010年12月14日
公開日（公表日）： 2012年07月05日
要約：

【課題】ジホウ素化アルケン類化合物の製造方法の触媒等として利用可能な新規銅錯体及びその利用技術を提供する。【解決手段】一般式(1)で示される化合物を配位子とする銅錯体は、ジホウ素化アルケン類化合物の製造方法の触媒等として優れる。(式(1)中、R1〜R3はそれぞれ独立して、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルケニル基、置換されていてもよい炭素数6〜20のアリール基、置換されていてもよい炭素数6〜20のアラルキル基、置換されていてもよい炭素数4〜20のヘテロアリール基、置換されていてもよい炭素数5〜20のヘテロアラルキル基、置換されていてもよい炭素数1〜20のアルキレン基、置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基、又は置換されていてもよい炭素数1〜20のアリーレン-アルキレン基を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(1)で示される化合物を配位子とする、銅錯体。

IPC (4件)：

C07F 9/50 ,  C07F 1/08 ,  C07F 5/02 ,  B01J 31/22

FI (4件)：

C07F9/50 ,  C07F1/08 Z ,  C07F5/02 C ,  B01J31/22 Z

Fターム (33件)：

4G169AA06 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA21A ,  4G169BA21B ,  4G169BA27A ,  4G169BA27B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC31C ,  4G169BE01A ,  4G169BE02A ,  4G169BE05C ,  4G169BE25A ,  4G169BE26B ,  4G169BE36A ,  4G169BE36B ,  4G169BE37A ,  4G169BE41A ,  4G169CB61 ,  4G169CB64 ,  4G169FA01 ,  4G169FB06 ,  4G169FB29 ,  4H039CA91 ,  4H039CF20 ,  4H048AA01 ,  4H048AB20 ,  4H048AB40 ,  4H048AB84 ,  4H048VB10 ,  4H050AA01 ,  4H050AB40