特許
J-GLOBAL ID：201203043073813850

排気系システム

発明者：
篠原 豊司

篠原 豊司 について

, 
川村 興太郎

川村 興太郎 について

, 
中澤 敏治

中澤 敏治 について


出願人/特許権者：
株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (3件)： 渡邉 勇 ,  小杉 良二 ,  廣澤 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-161552
公開番号（公開出願番号）：特開2012-054541
出願日： 2011年07月25日
公開日（公表日）： 2012年03月15日
要約：
【課題】製造装置における運転工程、製造装置に供給されるガスの種類およびガス流量をコントローラに入力することにより、真空ポンプ、排ガス処理装置等を最適な運転条件で運転することができ、また排気系システム側の機器のメンテナンス要求等を製造装置側に出力することにより、適正なタイミングで排気系システムの機器をメンテナンスできる排気系システムを提供する。【解決手段】半導体デバイス又は液晶又はLED又は太陽電池を製造する製造装置のチャンバを排気する排気系システムにおいて、真空ポンプ装置3と、排ガスを処理する排ガス処理装置5と、真空ポンプ装置3及び/又は排ガス処理装置5を制御するコントローラ6とを備え、製造装置1の運転工程、製造装置1に供給されたガスの種類およびガス流量の情報をコントローラ6に入力して真空ポンプ装置3及び/又は排ガス処理装置5を制御するようにした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
半導体デバイス又は液晶又はLED又は太陽電池を製造する製造装置のチャンバを排気する排気系システムにおいて、 前記チャンバを真空排気する真空ポンプ装置と、 前記チャンバから排気された排ガスを処理する排ガス処理装置と、 前記製造装置と前記真空ポンプ装置と前記排ガス処理装置とを接続する配管と、 前記真空ポンプ装置及び/又は排ガス処理装置を制御するコントローラとを備え、 前記製造装置の運転工程、前記製造装置に供給されたガスの種類およびガス流量の情報を前記コントローラに入力して前記真空ポンプ装置及び/又は排ガス処理装置を制御するようにしたことを特徴とする排気系システム。
IPC (3件)：
H01L 21/205 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/44
FI (3件)：
H01L21/205 ,  H01L21/302 101H ,  C23C16/44 E
Fターム (32件)：
4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA18 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA11 ,  4K030FA10 ,  4K030KA41 ,  4K030LA02 ,  4K030LA15 ,  5F004AA15 ,  5F004BC02 ,  5F004BD04 ,  5F004CA09 ,  5F004DA00 ,  5F004DA17 ,  5F004DA20 ,  5F004DA25 ,  5F045AA06 ,  5F045AC01 ,  5F045AC02 ,  5F045AC07 ,  5F045AC15 ,  5F045BB20 ,  5F045CA10 ,  5F045CA13 ,  5F045CA15 ,  5F045EB06 ,  5F045EG06 ,  5F045EG07 ,  5F045GB16 ,  5F045GB17
引用特許：
審査官引用 (8件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM