レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：好宮幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-034748
公開番号（公開出願番号）：特開2012-173479
出願日： 2011年02月21日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：

【課題】リソグラフィー性能を改善させると同時に、高い後退接触角を示し、更に、保護膜を用いる液浸露光及び保護膜を用いない液浸露光の両用においてブロッブ欠陥の発生を抑えることが可能なレジスト組成物及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化する高分子化合物(A)、高エネルギー線に感応して下記一般式(1)で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤(B)、下記一般式(2)で示される高分子添加剤(C)とを含むことを特徴とするレジスト組成物。R200-CF2SO3H(1)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

リソグラフィーで用いられるレジスト組成物であって、少なくとも、酸によってアルカリ溶解性が変化するベース樹脂となる高分子化合物(A)と、高エネルギー線に感応して下記一般式(1)で示されるスルホン酸を発生する光酸発生剤(B)と、下記一般式(2)で示される高分子添加剤(C)とを含むことを特徴とするレジスト組成物。 R200-CF2SO3H (1) (式中、R200はハロゲン原子であるか、カルボニル基、エーテル結合、エステル結合を含んでもよい炭素数1〜23の直鎖状、分岐状、もしくは環状の、アルキル基もしくはアラルキル基、又はアリール基であり、これらの基の水素原子がハロゲン原子、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、シアノ基で一つ又は複数置換されていてもよい。)

IPC (7件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C08F 220/22 , C08F 220/28 , C08F 220/30 , C09K 3/00 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C08F220/22 , C08F220/28 , C08F220/30 , C09K3/00 K , H01L21/30 502R

Fターム (111件)：

2H125AE04P , 2H125AF15P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF41P , 2H125AF70P , 2H125AH04 , 2H125AH05 , 2H125AH15 , 2H125AH16 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH24 , 2H125AH25 , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ63X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AL03 , 2H125AM22N , 2H125AM22P , 2H125AM25P , 2H125AM27N , 2H125AM27P , 2H125AM30N , 2H125AM32P , 2H125AM42N , 2H125AM66P , 2H125AM93P , 2H125AM94N , 2H125AM94P , 2H125AM95P , 2H125AM99N , 2H125AM99P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125AN57P , 2H125AN62P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA26P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4J100AJ02R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL08S , 4J100AL08T , 4J100BA02Q , 4J100BA02R , 4J100BA02S , 4J100BA02T , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA03S , 4J100BA11R , 4J100BA11S , 4J100BA11T , 4J100BA15P , 4J100BA15R , 4J100BA15S , 4J100BA16R , 4J100BA16S , 4J100BA16T , 4J100BA31R , 4J100BA31S , 4J100BA31T , 4J100BA50Q , 4J100BA56Q , 4J100BB07P , 4J100BB07R , 4J100BB07S , 4J100BB12P , 4J100BB12R , 4J100BB12S , 4J100BB18P , 4J100BB18R , 4J100BB18S , 4J100BB18T , 4J100BC03P , 4J100BC03R , 4J100BC03S , 4J100BC03T , 4J100BC04P , 4J100BC04R , 4J100BC04S , 4J100BC08Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC09S , 4J100BC43Q , 4J100BC53P , 4J100BC53R , 4J100BC53S , 4J100BC53T , 4J100CA03 , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100JA38

引用特許：

出願人引用 (1件)

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-247247 出願人：富士フイルム株式会社

審査官引用 (1件)

感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に於ける化合物
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-247247 出願人：富士フイルム株式会社

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