特許

J-GLOBAL ID：201203044546247188

銅膜形成用組成物及び該組成物を用いた銅膜の製造方法

発明者： ▲高▼木 大介 ,  芳仲 篤也 ,  豊田 昇平
出願人/特許権者： 株式会社ADEKA
代理人 (2件)： 近藤 利英子 ,  阿部 寛志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-264007
公開番号（公開出願番号）：特開2012-112022
出願日： 2010年11月26日
公開日（公表日）： 2012年06月14日
要約：

【課題】塗布性が良好で、保存安定性に優れ、低温で銅膜に転化でき、導電性に優れた銅膜を安価に製造できる溶液タイプの銅膜形成用組成物を提供すること。【解決手段】必須成分として、ギ酸銅又はその水和物を1モル部、下記一般式(1)または下記一般式(1’)のいずれかで表されるジオール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のジオール化合物を0.25〜2.0モル部、下記一般式(2)で表されるピペリジン化合物を0.25〜2.0モル部並びにこれらを溶解せしめる有機溶剤を含有してなる銅膜形成用組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

必須成分として、ギ酸銅又はその水和物を1モル部、下記一般式(1)または下記一般式(1’)のいずれかで表されるジオール化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種のジオール化合物を0.25〜2.0モル部、下記一般式(2)で表されるピペリジン化合物を0.25〜2.0モル部並びにこれらを溶解せしめる有機溶剤を含有してなることを特徴とする銅膜形成用組成物。

IPC (1件)：

C23C 18/08

FI (1件)：

C23C18/08

Fターム (9件)：

4K022AA02 ,  4K022AA03 ,  4K022AA04 ,  4K022AA05 ,  4K022AA13 ,  4K022BA08 ,  4K022CA13 ,  4K022DA06 ,  4K022DB04

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 銅薄膜形成用組成物および該組成物を用いた銅薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-089226   出願人：株式会社ADEKA
• 銅前駆体組成物およびそれを用いた銅膜の製造方法。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-104650   出願人：東レ株式会社