特許

J-GLOBAL ID：201203044750901636

動的ビームアレイを用いるフォトニックミリング

発明者： ベアード,ブライアン ダブリュ. ,  ブルランド,ケリー ジェイ. ,  ハインゼイ,ロバート
出願人/特許権者： エレクトロ サイエンティフィック インダストリーズ インコーポレーテッド
代理人 (5件)： 平木 祐輔 ,  関谷 三男 ,  渡辺 敏章 ,  松丸 秀和 ,  頭師 教文
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-527964
公開番号（公開出願番号）：特表2012-502805
出願日： 2009年09月17日
公開日（公表日）： 2012年02月02日
要約：

レーザ処理システムは、被加工物に対してビーム送達座標を整列させるビーム位置決めシステムを含む。ビーム位置決めシステムは、この整列に対応する位置データを生成する。また、システムは、パルスレーザ光源と、パルスレーザ光源からレーザパルスを受け取るビームレット生成モジュールとを含む。ビームレット生成モジュールは、レーザパルスからビームレットアレイを生成する。ビームレットアレイは、複数のビームレットパルスを含む。システムは、更に、ビームレットアレイ内の各ビームレットパルスの振幅を選択的に変調するビームレット変調器と、変調されたビームレットアレイを、位置データに対応する被加工物上の箇所の1つ以上の標的に集光するビームレット送達光学素子とを備える。【選択図】 図6

請求項（抜粋）：

被加工物に対してビーム送達座標を整列させ、前記整列に対応する位置データを生成するビーム位置決めシステムと、 パルスレーザ光源と、 前記パルスレーザ光源からレーザパルスを受け取り、前記レーザパルスから、複数のビームレットパルスを含むビームレットアレイを生成するビームレット生成モジュールと、 前記ビームレットアレイ内の各ビームレットパルスの振幅を変調するビームレット変調器と、 前記変調されたビームレットアレイを、前記位置データに対応する被加工物上の箇所の1つ以上の標的に集光するビームレット送達光学素子とを備えるレーザ処理システム。

IPC (6件)：

B23K 26/36 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  B23K 26/04 ,  B23K 26/02

FI (7件)：

B23K26/36 ,  B23K26/00 M ,  B23K26/06 Z ,  B23K26/08 K ,  B23K26/00 N ,  B23K26/04 Z ,  B23K26/02 A

Fターム (8件)：

4E068AH00 ,  4E068CA02 ,  4E068CA09 ,  4E068CC00 ,  4E068CD08 ,  4E068CE03 ,  4E068CE08 ,  4E068DA10