特許

J-GLOBAL ID：201203044753211223

偏光子の製造方法

発明者： 李 宗錫 ,  崔 允碩 ,  柳 智煕 ,  趙 成祐
出願人/特許権者： 東友ファインケム株式会社
代理人 (4件)： 田中 光雄 ,  山田 卓二 ,  森住 憲一 ,  柴田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-128309
公開番号（公開出願番号）：特開2011-257756
出願日： 2011年06月08日
公開日（公表日）： 2011年12月22日
要約：

【課題】光学特性に優れ、フィルムの破断およびしわ発生現象を防止するだけでなく、大面積化および薄膜化が可能であり、縦方向および横方向に対する寸法安定性の高い偏光子を提供すること。【解決手段】ホウ素化合物を含有する第1架橋用溶液に、ポリビニルアルコール系フィルムを浸漬する第1架橋段階;および、少なくとも2つのカルボキシ基を有する直鎖型多価カルボン酸化合物を含有する第2架橋用溶液に、ポリビニルアルコール系フィルムを浸漬する第2架橋段階を含む偏光子の製造方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

ホウ素化合物を含有する第1架橋用溶液に、ポリビニルアルコール系フィルムを浸漬する第1架橋段階;および 少なくとも2つのカルボキシ基を有する直鎖型多価カルボン酸化合物を含有する第2架橋用溶液に、ポリビニルアルコール系フィルムを浸漬する第2架橋段階、 を任意の順で含む偏光子の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133

FI (2件)：

G02B5/30 ,  G02F1/1335 510

Fターム (28件)：

2H149AA02 ,  2H149AA18 ,  2H149AA19 ,  2H149AB18 ,  2H149AB22 ,  2H149BA02 ,  2H149BA13 ,  2H149BB08 ,  2H149CA02 ,  2H149DA02 ,  2H149EA02 ,  2H149EA12 ,  2H149FA03W ,  2H149FD25 ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FA94X ,  2H191FA94Z ,  2H191FB02 ,  2H191FC05 ,  2H191FC07 ,  2H191FC32 ,  2H191FC34 ,  2H191FD07 ,  2H191LA04 ,  2H191LA13