特許

J-GLOBAL ID：201203045434291245

レトルト装置

発明者： 金澤 健司 ,  松川 泰三
出願人/特許権者： 三浦工業株式会社
代理人 (1件)： 野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-254780
公開番号（公開出願番号）：特開2012-105549
出願日： 2010年11月15日
公開日（公表日）： 2012年06月07日
要約：

【課題】被処理物を所定温度まで昇温させるために要する時間を短縮化して確実な殺菌効果が得られるレトルト装置を提供する。【解決手段】制御手段30は、加熱処理工程の初期段階で、第1の蒸気噴射ノズル16から処理槽12の内部に高温蒸気を噴射させることにより、処理槽12内部の温度を第1の目標温度TAまで加熱させ、処理槽12内部の温度が第1の目標温度TAに到達したならば、第2の蒸気噴射ノズル18から処理槽12に貯留されている熱媒体32に高温蒸気を噴射することにより熱媒体32を第2の目標温度TBまで加熱させる。熱媒体温度T2が第2の目標温度TBに到達したならば、熱媒体噴射ノズル14から熱媒体32を噴射させつつ第1、第2の蒸気噴射ノズル16、18の一方または双方から高温蒸気を噴射させることにより、処理槽温度T1を第3の目標温度TCまで加熱させ、その状態を維持する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理槽に収容された被処理物に、前記処理槽の底部に貯留された熱媒体を噴射させる熱媒体噴射ノズルと、 前記処理槽の内部に高温蒸気を噴射させる第1の蒸気噴射ノズルと、 前記処理槽の底部に貯留された前記熱媒体に高温蒸気を噴射する第2の蒸気噴射ノズルと、 前記熱媒体の前記熱媒体噴射ノズルへの供給と、前記第1、第2の蒸気噴射ノズルへの前記高温蒸気の供給とを制御する制御手段とを備えるレトルト装置であって、 前記制御手段は前記被処理物を加熱する加熱処理工程において、 初期段階で、前記第1の蒸気噴射ノズルから前記処理槽の内部に高温蒸気を噴射させることにより前記処理槽内部の温度を予め定められた第1の目標温度まで加熱させ、 前記処理槽内部の温度が前記第1の目標温度に到達したならば、前記第2の蒸気噴射ノズルから前記処理槽に貯留されている熱媒体に高温蒸気を噴射することにより前記熱媒体の温度を予め定められた第2の目標温度まで加熱させ、 前記熱媒体が第2の目標温度に到達したならば、前記熱媒体噴射ノズルから前記熱媒体を噴射させる、 ことを特徴とするレトルト装置。

IPC (1件)：

A23L 3/10

FI (1件)：

A23L3/10

Fターム (5件)：

4B021LA05 ,  4B021LP01 ,  4B021LT09 ,  4B021MC01 ,  4B021MP10