特許
J-GLOBAL ID：201203045991788438
気体処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉村 俊一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-071435
公開番号（公開出願番号）：特開2012-205615
出願日： 2011年03月29日
公開日（公表日）： 2012年10月25日
要約：
【課題】オゾンを発生させず、簡易な構造で、消費電力や発熱量が少ない気体処理装置を提供する。【解決手段】中空構造のハウジング2と、ハウジング2内に気体を取り込む導入口3と、導入口3からハウジング2内に取り込まれる気体の進路を遮る位置に配置された高分子多孔体11と、高分子多孔体11の導入口側に配置されて該高分子多孔体11に向けて深紫外線を照射する紫外線発生部材20と、高分子多孔体11を通過した気体を排出する排出口4とを備える気体処理装置1であって、高分子多孔体11は深紫外線の照射下でOHラジカルを生成する高分子化合物からなるように構成して、上記課題を解決する。このとき、紫外線発生部材は200nm〜350nmの波長の深紫外線を発生する発光ダイオードであることが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
中空構造のハウジングと、該ハウジング内に気体を取り込む導入口と、該導入口からハウジング内に取り込まれる気体の進路を遮る位置に配置された高分子多孔体と、該高分子多孔体の前記導入口側に配置されて該高分子多孔体に向けて深紫外線を照射する紫外線発生部材と、前記高分子多孔体を通過した気体を排出する排出口とを備えることを特徴とする気体処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
4C080AA03
, 4C080AA10
, 4C080BB01
, 4C080BB05
, 4C080BB10
, 4C080HH02
, 4C080JJ01
, 4C080KK02
, 4C080MM40
, 4C080QQ01
, 4C080QQ11
, 4C080QQ17
