特許
J-GLOBAL ID：201203046278413242
マスクのデータを作成するためのプログラム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
阿部 琢磨
, 黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-244368
公開番号（公開出願番号）：特開2012-098397
出願日： 2010年10月29日
公開日（公表日）： 2012年05月24日
要約：
【課題】 解像性能とマスク製造コストの抑制を両立できるマスクデータ作成プログラムや方法を提供する。【解決手段】 マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系を用いて基板を露光する露光装置に用いられる前記マスクのデータをコンピュータに作成させるプログラムであって、マスクは前記基板に形成すべき目標パターンを解像するためのメインパターンと、解像しない補助パターンとを含み、メインパターン及び補助パターンのパラメータの値を設定し、メインパターン及び補助パターンのパラメータの各値で定められるメインパターン及び補助パターンを投影光学系を用いて投影した場合の像を計算する。メインパターン及び補助パターンのパラメータの値を変更して該計算を行った結果に基づいて、メインパターン及び補助パターンのパラメータの値を決定して、該決定されたメインパターン及び補助パターンを含むマスクのデータを作成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスクのパターンの像を基板に投影する投影光学系を用いて前記基板を露光する露光装置に用いられる前記マスクのデータをコンピュータに作成させるプログラムであって、
前記マスクは前記基板に形成すべき目標パターンを解像するためのメインパターンと、解像しない補助パターンとを含み、
前記メインパターンのパラメータの値と、前記補助パターンのパラメータの値を設定する設定ステップと、
該設定された前記メインパターンのパラメータおよび前記補助パターンのパラメータのそれぞれの値で定められる前記メインパターンおよび前記補助パターンを前記投影光学系を用いて投影した場合の像を計算する計算ステップとを有し、
前記メインパターンのパラメータの値と前記補助パターンのパラメータの値とを変更して前記計算ステップを行った結果に基づいて、前記メインパターンのパラメータの値と前記補助パターンのパラメータの値を決定して、該決定されたメインパターン及び補助パターンを含むマスクのデータを作成することを特徴とするプログラム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
2H095BA01
, 2H095BB02
, 2H095BB36
