特許
J-GLOBAL ID:201203047228178192
遷移金属シリサイド-Si複合粉末及びその製造方法、並びに、遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
畠山 文夫
, 小林 かおる
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-094237
公開番号(公開出願番号):特開2012-072046
出願日: 2011年04月20日
公開日(公表日): 2012年04月12日
要約:
【課題】新規な遷移金属シリサイド-Si複合材料及びその製造方法、並びに、このような遷移金属シリサイド-Si複合粉末を製造することが可能な遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法を提供すること。【解決手段】1種又は2種以上の遷移金属元素(M)を含み、Si/M比(z)が2.0≦z≦20.0であり、比表面積が2.5m2/g以上である遷移金属シリサイド-Si複合粉末及びその製造方法。Si/Ca比(w)が2.0≦w≦20.0であり、少なくともCaシリサイド相を含む遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法。【選択図】図11
請求項(抜粋):
一種又は2種以上の遷移金属元素(M)を含み、
Si/M比(z)が2.0≦z≦20.0であり、
比表面積が2.5m2/g以上である遷移金属シリサイド-Si複合粉末。
IPC (3件):
C01B 33/06
, H01M 4/38
, H01M 4/36
FI (3件):
C01B33/06
, H01M4/38 Z
, H01M4/36 A
Fターム (32件):
4G072AA01
, 4G072AA20
, 4G072AA50
, 4G072BB05
, 4G072GG02
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072HH02
, 4G072JJ28
, 4G072MM02
, 4G072MM03
, 4G072MM23
, 4G072MM26
, 4G072MM31
, 4G072MM36
, 4G072MM38
, 4G072UU30
, 5H050AA02
, 5H050AA08
, 5H050AA12
, 5H050BA17
, 5H050CB11
, 5H050FA17
, 5H050GA01
, 5H050GA02
, 5H050GA10
, 5H050GA11
, 5H050GA12
, 5H050HA02
, 5H050HA07
, 5H050HA14
, 5H050HA19
引用特許:
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