特許
J-GLOBAL ID:201203047228178192

遷移金属シリサイド-Si複合粉末及びその製造方法、並びに、遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 畠山 文夫 ,  小林 かおる
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-094237
公開番号(公開出願番号):特開2012-072046
出願日: 2011年04月20日
公開日(公表日): 2012年04月12日
要約:
【課題】新規な遷移金属シリサイド-Si複合材料及びその製造方法、並びに、このような遷移金属シリサイド-Si複合粉末を製造することが可能な遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法を提供すること。【解決手段】1種又は2種以上の遷移金属元素(M)を含み、Si/M比(z)が2.0≦z≦20.0であり、比表面積が2.5m2/g以上である遷移金属シリサイド-Si複合粉末及びその製造方法。Si/Ca比(w)が2.0≦w≦20.0であり、少なくともCaシリサイド相を含む遷移金属シリサイド-Si複合粉末製造用CaSiy系粉末及びその製造方法。【選択図】図11
請求項(抜粋):
一種又は2種以上の遷移金属元素(M)を含み、 Si/M比(z)が2.0≦z≦20.0であり、 比表面積が2.5m2/g以上である遷移金属シリサイド-Si複合粉末。
IPC (3件):
C01B 33/06 ,  H01M 4/38 ,  H01M 4/36
FI (3件):
C01B33/06 ,  H01M4/38 Z ,  H01M4/36 A
Fターム (32件):
4G072AA01 ,  4G072AA20 ,  4G072AA50 ,  4G072BB05 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072HH02 ,  4G072JJ28 ,  4G072MM02 ,  4G072MM03 ,  4G072MM23 ,  4G072MM26 ,  4G072MM31 ,  4G072MM36 ,  4G072MM38 ,  4G072UU30 ,  5H050AA02 ,  5H050AA08 ,  5H050AA12 ,  5H050BA17 ,  5H050CB11 ,  5H050FA17 ,  5H050GA01 ,  5H050GA02 ,  5H050GA10 ,  5H050GA11 ,  5H050GA12 ,  5H050HA02 ,  5H050HA07 ,  5H050HA14 ,  5H050HA19
引用特許:
審査官引用 (3件)

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