レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物及び酸発生剤

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-061514
公開番号（公開出願番号）：特開2012-037864
出願日： 2011年03月18日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
要約：

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、一般式(b1-1)[式中、Y0は置換基を有していてもよい炭素数1〜4のアルキレン基又はフッ素化アルキレン基を表す。R0はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、ハロゲン化アルキル基、水酸基又は酸素原子(=O)を表す。pは0又は1である。Z+は有機カチオンを表す。]で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。[化1]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含有することを特徴とするレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , C07D 493/08 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , C07D493/08 C , H01L21/30 502R

Fターム (37件)：

2H125AF13P , 2H125AF16P , 2H125AF18P , 2H125AF20P , 2H125AF21P , 2H125AF26P , 2H125AF38P , 2H125AF70P , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AJ14X , 2H125AJ65X , 2H125AJ69X , 2H125AL11 , 2H125AN02P , 2H125AN21P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN54P , 2H125AN63P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA08P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC03 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 4C071AA03 , 4C071BB01 , 4C071CC11 , 4C071EE08 , 4C071FF18 , 4C071HH05 , 4C071HH09 , 4C071LL05

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