特許
J-GLOBAL ID：201203047934079172

真空成形用化粧シート、及び該化粧シートを用いてなる化粧材

発明者：
鴨下 千草

鴨下 千草 について

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西川 仁

西川 仁 について

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川崎 啓史

川崎 啓史 について

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中井 康介

中井 康介 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 大谷 保 ,  平澤 賢一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-076821
公開番号（公開出願番号）：特開2012-210741
出願日： 2011年03月30日
公開日（公表日）： 2012年11月01日
要約：
【課題】成形加工性が良好で真空成形による三次元加工時に白化やクラックが発生せず、かつ耐擦傷性や耐汚染性等の表面物性に優れたグロスマット仕様の真空成形用化粧シートを提供する。【解決手段】基材シートと、装飾層と、透明樹脂層とをこの順に有し、さらに該透明樹脂層上に部分的に設けられた低艶発現層と、該低艶発現層を被覆すると共に該透明樹脂層上の該低艶発現層が設けられていない領域も被覆する表面保護層と、を有する真空成形用化粧シートであって、前記表面保護層が電離放射線硬化性樹脂を含む樹脂組成物の架橋硬化物であり、その厚さが、該低艶発現層が設けられていない領域において、1〜20μmであり、前記低艶発現層が、平均体積粒径0.5〜25μmのシリカ粒子及び樹脂を含有し、該シリカ粒子の含有量が該樹脂100質量部に対して1〜30質量部である、真空成形用化粧シート。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材シートと、装飾層と、透明樹脂層とをこの順に有し、さらに該透明樹脂層上に部分的に設けられた低艶発現層と、該低艶発現層を被覆すると共に該透明樹脂層上の該低艶発現層が設けられていない領域も被覆する表面保護層と、を有する真空成形用化粧シートであって、 前記表面保護層が電離放射線硬化性樹脂を含む樹脂組成物の架橋硬化物であり、その厚さが、該低艶発現層が設けられていない領域において、1〜20μmであり、 前記低艶発現層が、平均体積粒径0.5〜25μmのシリカ粒子及び樹脂を含有し、該シリカ粒子の含有量が該樹脂100質量部に対して1〜30質量部である、真空成形用化粧シート。
IPC (3件)：
B32B 27/00 ,  B29C 51/10 ,  B29C 51/14
FI (3件)：
B32B27/00 E ,  B29C51/10 ,  B29C51/14
Fターム (35件)：
4F100AA20D ,  4F100AK01C ,  4F100AK01D ,  4F100AK01E ,  4F100AK04 ,  4F100AK25E ,  4F100AK41E ,  4F100AL05E ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100GB08 ,  4F100HB00B ,  4F100JB14E ,  4F100JB16E ,  4F100JL01 ,  4F100JL06 ,  4F100JN01C ,  4F100JN21D ,  4F100YY00D ,  4F100YY00E ,  4F208AA21 ,  4F208AA24 ,  4F208AA44 ,  4F208AB17 ,  4F208AC03 ,  4F208AD20 ,  4F208AG01 ,  4F208AG03 ,  4F208MA01 ,  4F208MB01 ,  4F208MG04 ,  4F208MG11
引用特許：
審査官引用 (4件)
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