特許
J-GLOBAL ID:201203048422021519
被膜形成方法及び被膜
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
須藤 政彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-235881
公開番号(公開出願番号):特開2012-086175
出願日: 2010年10月20日
公開日(公表日): 2012年05月10日
要約:
【課題】薄膜でありながら、優れた外観と機能性を併せ持つ、高品質被膜を製造する方法及びその高品質被膜を提供する。【解決手段】高分子化合物の前駆体又は高分子化合物を、亜臨界又は超臨界流体に溶解した、被膜形成能を有する混合物を、噴霧させて、対象物の表面に塗布して被膜を形成する工程と、前記被膜を硬化させて、厚さが20μm以下で、かつ接触式表面粗さ計で測定される表面形状曲線に対して、カットオフ値8mmでうねり除去した表面粗さRzが、0.8μm以下である高品質被膜を形成する工程、とを有し、その際、被膜の形成直後の粘度を、10〜300mPa・secになるよう塗装条件を制御することからなる、高品質被膜の形成方法、及びその被膜製品。【効果】高圧二酸化炭素塗装により、良好な平滑性を有する、表面粗さRzが0.8μm以下の被膜を形成した高品質被膜製品を提供できる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
高分子化合物の前駆体又は高分子化合物の少なくともいずれかを、少なくとも1種の亜臨界又は超臨界流体に溶解した被膜形成能を有する混合物を、ノズル又はオリフィスから噴霧させて、平面又は立体形状を有する対象物の表面に塗布して被膜を形成する工程、及び、自然放置、加熱又は活性エネルギー線照射の少なくともいずれかの手段により、前記被膜を硬化させて、厚さが20μm以下の薄膜でかつ接触式表面粗さ計で測定される表面形状曲線に対して、カットオフ値8mmでうねり除去した表面粗さRzが、0.8μm以下である高品質被膜を形成する工程、を有することを特徴とする高圧二酸化炭素塗装による被膜形成方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (29件):
4D075AA01
, 4D075BB24Z
, 4D075BB41Z
, 4D075CA48
, 4D075DA06
, 4D075DA23
, 4D075DB48
, 4D075EA21
, 4D075EB11
, 4D075EB22
, 4D075EB31
, 4D075EB47
, 4D075EB52
, 4D075EB56
, 4D075EC30
, 4F006AA36
, 4F006AB24
, 4F006AB43
, 4F006AB72
, 4F006DA00
, 4F006EA03
, 4F006EA05
, 4J038HA566
, 4J038KA06
, 4J038MA07
, 4J038MA09
, 4J038NA01
, 4J038PA06
, 4J038PA15
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