特許

J-GLOBAL ID：201203048513022151

保持パッド

発明者： 久米 貴宏 ,  岩尾 智弘 ,  実谷 将人
出願人/特許権者： 富士紡ホールディングス株式会社
代理人 (1件)： 五十嵐 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-206263
公開番号（公開出願番号）：特開2012-061533
出願日： 2010年09月15日
公開日（公表日）： 2012年03月29日
要約：

【課題】被研磨物を長期間平坦に保持することができる保持パッドを提供する。【解決手段】保持パッド10では、湿式成膜法により複数の発泡3と多数の微細孔6とが連続状に形成された発泡構造を有するポリウレタン樹脂製の発泡シート2を備えている。多数の微細孔6の大きさは、発泡3の大きさより小さく形成されている。発泡シート2に形成された発泡構造において、多数の微細孔6内に補強樹脂5が、微細孔6の体積に対する補強樹脂5の存在する体積の割合が30%以上となるように存在している。補強樹脂5は、樹脂エマルションを発泡シート2に含浸させることで形成されたものである。補強樹脂5が発泡シート2の発泡構造を補強する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被研磨物を保持するための保持面を有しており、湿式成膜法により、前記保持面より内側に、複数の発泡と、前記複数の発泡より大きさの小さい多数の微細孔とが連続状に形成された発泡構造を有する発泡シートを備えた保持パッドにおいて、前記発泡シートは、第1の樹脂で形成されており、前記多数の微細孔内に第2の樹脂が前記微細孔の体積に対する前記第2の樹脂の存在する体積の割合が30%以上となるように含有されたことを特徴とする保持パッド。

IPC (2件)：

B24B 37/30 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

B24B37/04 L ,  H01L21/304 622H

Fターム (13件)：

3C058AA07 ,  3C058AB04 ,  3C058CA05 ,  3C058CA06 ,  3C058CB02 ,  3C058CB10 ,  3C058DA17 ,  5F057AA05 ,  5F057BA11 ,  5F057CA11 ,  5F057DA02 ,  5F057EC10 ,  5F057FA14

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体ウエハー研磨用クロス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-263631   出願人：ロデール・ニツタ株式会社
• 保持具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-076232   出願人：富士紡ホールディングス株式会社