特許

J-GLOBAL ID：201203051822297603

液処理装置

発明者： 小西 輝明 ,  手塚 孝弘
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  瀧澤 宣明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-293627
公開番号（公開出願番号）：特開2012-142404
出願日： 2010年12月28日
公開日（公表日）： 2012年07月26日
要約：

【課題】装置の組み立て、メンテナンスが容易である液処理装置を提供する。【解決手段】基板Wに対して液処理を行うための複数の液処理ユニット2が互いに横方向に並べて配置され、液処理ユニット2内の雰囲気を排気する排気管3は、これら複数の液処理ユニット2の下方側に、当該液処理ユニット2の並びに沿って伸びるように配置され、給液用の通流制御機器群4は前記排気管3の下方側に設けられている。給液用主配管5及び排液用主配管6は、これら通流制御機器群4の下方側にて複数の液処理ユニット2の並びに沿って各々伸びるように設けられ、前記給液用主配管5からは、複数の給液用分岐管が分岐して、前記給液用の通流制御機器402を介して各液処理ユニット2に接続され、前記排液用主配管6からは複数の排液用分岐管が分岐して各液処理ユニットに接続されている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

互いに横方向に並べて配置され、処理液により基板に対して液処理を行うための複数の液処理ユニットと、 これら複数の液処理ユニットの下方側に当該複数の液処理ユニットの並びに沿って伸びるように配置され、各液処理ユニット内の雰囲気を排気するための排気管と、 各々前記排気管の下方側に設けられた給液用の通流制御機器群と、

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/30

FI (3件)：

H01L21/304 648J ,  H01L21/30 569C ,  G03F7/30 501

Fターム (26件)：

2H096GA30 ,  5F146LA03 ,  5F146LA07 ,  5F157AA16 ,  5F157AA42 ,  5F157AA73 ,  5F157AA77 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB47 ,  5F157AB50 ,  5F157AB51 ,  5F157AB90 ,  5F157BB23 ,  5F157CB03 ,  5F157CB14 ,  5F157CE10 ,  5F157CE11 ,  5F157CE76 ,  5F157CF20 ,  5F157CF42 ,  5F157CF60 ,  5F157CF72 ,  5F157DC11 ,  5F157DC21