特許

J-GLOBAL ID：201203052919912996

表示装置の製造方法および表示装置の製造装置

発明者： 東田 隆亮 ,  及川 一摩 ,  山本 剛司 ,  江嶋 恒行
出願人/特許権者： パナソニック株式会社
代理人 (1件)： 鷲田 公一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-165917
公開番号（公開出願番号）：特開2012-028180
出願日： 2010年07月23日
公開日（公表日）： 2012年02月09日
要約：

【課題】セル内における膜厚均一性に優れた発光層を備えた表示装置を高い生産効率で製造する方法を提供する。【解決手段】支持基板と、複数の画素領域を形成する隔壁と、発光層とを備えた表示装置を製造する方法である。それぞれの画素領域内に、発光材料、第一の溶媒、及び第二の溶媒を含有する、その粘度が5〜25mPa・sのインク組成物を塗布して塗布層を形成するステップと、塗布層を大気圧条件下で一次乾燥して粘度を35〜55mPa・sに調整するステップと、粘度が調整された塗布層を減圧条件下で二次乾燥して発光層を形成するステップとを含み、第二の溶媒の沸点は、第一の溶媒の沸点よりも5〜50°C低い。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

支持基板と、前記支持基板上に配置され、マトリクス状又はライン状に区画された複数の画素領域を形成する隔壁と、それぞれの前記画素領域内に配置された発光層と、を備えた表示装置を製造する方法であって、 それぞれの前記画素領域内に、発光材料、第一の溶媒、及び第二の溶媒を含有する、その粘度が5〜25mPa・sのインク組成物を塗布して塗布層を形成するステップと、 形成された前記塗布層を大気圧条件下で一次乾燥して、前記塗布層の粘度を35〜55mPa・sに調整するステップと、 粘度が調整された前記塗布層を減圧条件下で二次乾燥して前記発光層を形成するステップと、を含み、 前記第二の溶媒の沸点は、前記第一の溶媒の沸点よりも5〜50°C低い表示装置の製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  H05B 33/12 ,  H05B 33/22

FI (4件)：

H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  H05B33/12 B ,  H05B33/22 Z

Fターム (16件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC21 ,  3K107CC29 ,  3K107CC33 ,  3K107CC45 ,  3K107DD50 ,  3K107DD58 ,  3K107DD70 ,  3K107DD89 ,  3K107FF03 ,  3K107FF05 ,  3K107FF14 ,  3K107GG08 ,  3K107GG28 ,  3K107GG35