高純度ジグリシジルアミン系エポキシ化合物およびその製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (7件)：小川信一 , 野口賢照 , 昼間孝良 , 佐藤謙二 , 平井功 , 境澤正夫 , 斎下和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-088659
公開番号（公開出願番号）：特開2012-219081
出願日： 2011年04月12日
公開日（公表日）： 2012年11月12日
要約：

【課題】工業的に有用な高純度ジグリシジルアミン系エポキシ化合物およびその製造方法を提供する。【解決手段】本発明の高純度ジグリシジルアミン系エポキシ化合物は、化学純度96%以上である、下記一般式(1)で示されるエポキシ化合物であることを特徴とする。【選択図】なし

請求項（抜粋）：