特許

J-GLOBAL ID：201203054738790301

フォトレジスト用樹脂の製造方法、フォトレジスト用樹脂、フォトレジスト用樹脂組成物、及びパターン形成方法

発明者： 江口 明良 ,  西村 政通
出願人/特許権者： 株式会社ダイセル
代理人 (2件)： 後藤 幸久 ,  羽明 由木
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-032806
公開番号（公開出願番号）：特開2012-171992
出願日： 2011年02月18日
公開日（公表日）： 2012年09月10日
要約：

【課題】分子量が小さなポリマーやオリゴマーの混入が極めて低いフォトレジスト用樹脂を効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】本発明のフォトレジスト用樹脂の製造方法は、少なくとも単量体を含有する溶液を滴下重合する工程を有するフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、T1(°C)に保持した反応容器に前記溶液を滴下し、前記溶液中に含有する全単量体の15重量%以上、100重量%以下が滴下終了した時点で、反応容器の温度を下記T2(°C)まで降温する工程を有することを特徴とする。 T2(°C):(T1-50)(°C)以上、(T1-5)(°C)以下【選択図】なし

請求項（抜粋）：

少なくとも単量体を含有する溶液を滴下重合する工程を有するフォトレジスト用樹脂の製造方法であって、T1(°C)に保持した反応容器に前記溶液を滴下し、前記溶液中に含有する全単量体の15重量%以上、100重量%以下が滴下終了した時点で、反応容器の温度を下記T2(°C)まで降温する工程を有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂の製造方法。 T2(°C):(T1-50)(°C)以上、(T1-5)(°C)以下

IPC (4件)：

C08F 2/04 ,  C08F 220/16 ,  C08F 2/00 ,  G03F 7/039

FI (4件)：

C08F2/04 ,  C08F220/16 ,  C08F2/00 A ,  G03F7/039 601

Fターム (29件)：

2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ75X ,  2H125AJ79X ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125EA01P ,  4J011AA05 ,  4J011AB02 ,  4J011AC03 ,  4J011BB01 ,  4J011BB09 ,  4J011BB12 ,  4J011HA04 ,  4J011HB02 ,  4J011HB13 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03R ,  4J100BC03P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100DA04 ,  4J100FA19 ,  4J100FA28 ,  4J100JA38