特許

J-GLOBAL ID：201203054956384099

シリカ膜およびその製造方法

発明者： 村上 泰 ,  清水 航 ,  法華 淳介
出願人/特許権者： 国立大学法人信州大学
代理人 (1件)： 長谷川 洋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-065730
公開番号（公開出願番号）：特開2012-201529
出願日： 2011年03月24日
公開日（公表日）： 2012年10月22日
要約：

【課題】 防曇性能に優れ、高硬度かつ高付着性のシリカ膜を得る。 【解決手段】 本発明は、JIS K5600-5-4に基づき測定される鉛筆硬度が3H以上の硬度を有し、IUPACの分類においてミクロ孔に分類される細孔であってBET測定値に基づく平均直径2nm以下の細孔で構成される多孔質膜表面の親水性領域中に、Si-CH3結合を有する疎水性領域を分散して成るシリカ膜に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

JIS K5600-5-4に基づき測定される鉛筆硬度が3H以上の硬度を有し、 IUPACの分類においてミクロ孔に分類される細孔であってBET測定値に基づく平均直径2nm以下の細孔で構成される多孔質膜表面の親水性領域中に、Si-CH3結合を有する疎水性領域を分散して成ることを特徴とするシリカ膜。

IPC (2件)：

C01B 33/12 ,  B05D 7/24

FI (2件)：

C01B33/12 C ,  B05D7/24 302Y

Fターム (33件)：

4D075BB21Z ,  4D075BB64Z ,  4D075BB68Z ,  4D075BB96Z ,  4D075CA13 ,  4D075CA32 ,  4D075CA33 ,  4D075CA37 ,  4D075CB06 ,  4D075DA06 ,  4D075DA10 ,  4D075DB11 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA06 ,  4D075EA07 ,  4D075EA13 ,  4D075EA19 ,  4D075EA23 ,  4D075EB42 ,  4G072AA25 ,  4G072BB09 ,  4G072HH28 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ39 ,  4G072JJ47 ,  4G072MM02 ,  4G072RR05 ,  4G072RR12 ,  4G072TT14 ,  4G072UU30

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 遊技機
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-171686   出願人：株式会社大万
• 任意の表面特性及び表面形状を有する基体表面へのシリカ薄膜の製造方法及び複合構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-076093   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
• 疎水性エアロゲルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-070064   出願人：松下電工株式会社
• シリカ微粒子凝集体分散液及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-344492   出願人：王子製紙株式会社
• シリカ微粒子分散液の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-047340   出願人：王子製紙株式会社