特許

J-GLOBAL ID：201203056483591728

プロキシミティ露光装置、及びプロキシミティ露光装置のギャップ制御方法

発明者： 藤井 大和 ,  大塚 知夫
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 高橋 浩三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-135764
公開番号（公開出願番号）：特開2012-002893
出願日： 2010年06月15日
公開日（公表日）： 2012年01月05日
要約：

【課題】マスクの厚さが異なっても、ギャップセンサーの受光系の位置を調整することなく、マスクと基板とのギャップを検出する。【解決手段】マスク2へ光を斜めに照射する投光系40aと、投光系40aから照射されてマスク2の下面で反射された光、及び投光系40aから照射されて基板1の表面で反射された光を受光する受光系40bとを有する複数のギャップセンサー40を用いて、各ギャップセンサー40の受光系40bで受光した各光の位置から、マスク2と基板1とのギャップを検出し、検出結果に基づき、マスク2と基板1とのギャップ合わせを行う。異なる厚さのマスクを使用するとき、マスク2の厚さに応じて、マスク2の厚さの増減による光路の変化を補正する光学部品(70a,70b)を、各ギャップセンサー40の投光系40aと受光系40bとの間の光路内へ移動し、または光路外へ移動する。【選択図】図8

請求項（抜粋）：

基板を支持するチャックと、マスクを保持するマスクホルダとを備え、マスクと基板との間に微小なギャップを設けて、マスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ露光装置であって、 前記マスクホルダをZ方向へ移動及びチルトする複数のZ-チルト機構と、 マスクへ光を斜めに照射する投光系と、該投光系から照射されてマスクの下面で反射された光、及び該投光系から照射されて基板の表面で反射された光を受光する受光系とを有し、該受光系で受光した各光の位置から、マスクと基板とのギャップを検出する複数のギャップセンサーと、 前記複数のZ-チルト機構を駆動する駆動回路と、 前記複数のギャップセンサーの検出結果に基づき、前記駆動回路により前記複数のZ-チルト機構を駆動して、マスクと基板とのギャップ合わせを行う制御装置とを備え、 各ギャップセンサーは、マスクの厚さの増減による光路の変化を補正する光学部品と、該光学部品を移動する移動機構とを有し、マスクの厚さに応じて、該光学部品を、前記投光系と前記受光系との間の光路内へ移動し、または光路外へ移動することを特徴とするプロキシミティ露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  G02F 1/13

FI (2件)：

G03F7/20 501 ,  G02F1/13 101

Fターム (6件)：

2H088FA19 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  2H097GA45 ,  2H097LA11 ,  2H097LA12