特許
J-GLOBAL ID:201203057046005549

ヒ素収着材及びヒ素汚染物質の浄化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大谷 嘉一
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2010050880
公開番号(公開出願番号):WO2010-087297
出願日: 2010年01月25日
公開日(公表日): 2010年08月05日
要約:
【課題】ヒ酸の収着能が高く、収着物質の安定性に優れたヒ酸収着材及びそれを用いた浄化方法の提供を目的とする。【解決手段】Mg2+イオンとCa2+イオンとがMg/Ca=0.3以上の割合で含有する水溶液に、可溶性炭酸塩又は炭酸塩の水溶液を混合することで沈殿生成したモノハイドロカルサイトであって、モノハイドロカルサイト中のモル比でMg/(Ca+Mg)の値が0.1以下であることを特徴とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
Mg2+イオンとCa2+イオンとがMg/Ca=0.3以上の割合で含有する水溶液に、可溶性炭酸塩又は炭酸塩の水溶液を混合することで沈殿生成したモノハイドロカルサイトであって、 モノハイドロカルサイト中のモル比でMg/(Ca+Mg)の値が0.1以下であることを特徴とするヒ素収着材。
IPC (4件):
B01J 20/04 ,  C02F 1/28 ,  B01J 20/30 ,  C01F 11/18
FI (5件):
B01J20/04 A ,  C02F1/28 E ,  C02F1/28 B ,  B01J20/30 ,  C01F11/18 B
Fターム (20件):
4D624AA05 ,  4D624AB17 ,  4D624BA11 ,  4D624BB01 ,  4G066AA43B ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066BA36 ,  4G066CA46 ,  4G066FA05 ,  4G066FA37 ,  4G076AA16 ,  4G076AA18 ,  4G076AB04 ,  4G076AB09 ,  4G076BC07 ,  4G076CA02 ,  4G076CA05 ,  4G076CA26 ,  4G076DA25

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