支持体から物質を除去する方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 永坂友康 , 小林良博 , 出野知
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-268220
公開番号（公開出願番号）：特開2012-069994
出願日： 2011年12月07日
公開日（公表日）： 2012年04月05日
要約：

【課題】物質、そして好ましくはホトレジスト、を支持体(18)から除去する方法を提供する。【解決手段】硫酸及び/又はその脱水種及び前駆体を含み水/硫酸モル比が5:1未満である液状硫酸組成物を該物質で被覆された支持体を実質的均一に被覆するのに有効な量で、物質で被覆された支持体上に投与することを含む方法。該支持体は、該液状硫酸組成物の投与前、投与中又は投与後の何れかにおいて、好ましくは、少なくとも約90°Cの温度に加熱される。該支持体が少なくとも約90°Cの温度になった後に、該液状硫酸組成物は、該液状硫酸組成物の温度が水蒸気への暴露前の該液状硫酸組成物の温度よりも上昇するのに効果的な量の水蒸気に暴露される。該支持体は次いで好ましくは洗浄されて該物質を除去する。【選択図】図3A

請求項（抜粋）：

次の工程を含む、3つのオリフィスノズルからの液体のスプレーの方向を変えるための方法: a)i)十分な圧力下で液体源から液体を供給され、そこから液体の流れを噴出する第1オリフィス; ii)ガス源からガスを供給される第1ガスオリフィスであって、該ガスは制御された圧力で供給されて該第1ガスオリフィスからガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第1ガスオリフィス; iii )第2ガス源から第2ガスを供給される第2ガスオリフィスであって、該ガスは制御された圧力で供給されて該第2ガスオリフィスからガスの流れを噴出し、少なくとも部分的に液体の流れを偏向させる、第2ガスオリフィス、を有するノズルを装備し;そして b)該中央オリフィスからの液体の流れに方向を付与するように第1ガスオリフィス及び第2ガスオリフィスの少なくとも1つのガス流の流れを修正することにより、該ノズルからの液体のスプレー方向を調節する。

IPC (2件)：

H01L 21/304 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/304 643A , H01L21/30 572B

Fターム (16件)：

5F146MA02 , 5F146MA03 , 5F146MA05 , 5F157AA64 , 5F157AB03 , 5F157AB33 , 5F157AB90 , 5F157BB23 , 5F157BB33 , 5F157BB44 , 5F157BB66 , 5F157BE43 , 5F157BH18 , 5F157CC02 , 5F157CE25 , 5F157DB02

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平4-004060

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