特許

J-GLOBAL ID：201203058684035346

液処理装置及び液処理方法

発明者： 桾本 裕一朗 ,  枇杷 聡
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-186746
公開番号（公開出願番号）：特開2012-049153
出願日： 2010年08月24日
公開日（公表日）： 2012年03月08日
要約：

【課題】基板上に処理液を供給する複数のノズルのうちの処理に供される選択された1つのノズル先端部の処理液の状態を安定して画像処理する液処理装置及び液処理方法を提供すること。【解決手段】基板に液処理を行う液処理装置において、基板を保持するスピンチャック41と、スピンチャックに保持された基板に処理液を供給する複数のノズル10と、複数のノズルを搬送するノズル搬送機構10Aと、ノズルの先端を撮像するカメラ17と、カメラを複数のノズルの1つに対して移動させる移動機構と、ノズルの処理液供給部、ノズル搬送機構及びカメラの移動機構の処理動作を制御すると共に、複数のノズルの中から1つのノズルを選択する処理プログラムを備える制御部9と、を備える。これにより、ノズル先端部の液だれまたは滴下の発生状況に応じて所定の対処動作を実行する。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

基板に液処理を行う液処理装置であって、 基板を保持する基板保持部と、 前記基板保持部に保持された基板に処理液を供給する複数のノズルと、 前記複数のノズルを搬送するノズル搬送機構と、 前記ノズルの先端を撮像する撮像手段と、 前記撮像手段を前記複数のノズルの1つに対して移動させる移動機構と、 前記ノズルの処理液供給部、前記ノズル搬送機構及び前記撮像手段の移動機構の処理動作を制御すると共に、前記複数のノズルの中から1つのノズルを選択する処理プログラムを備える制御部と、 を備えたことを特徴とする液処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/00 ,  B05C 5/00 ,  B05D 1/26

FI (5件)：

H01L21/30 564C ,  H01L21/30 569C ,  B05C11/00 ,  B05C5/00 101 ,  B05D1/26 Z

Fターム (23件)：

4D075AC07 ,  4D075AC73 ,  4D075AC78 ,  4D075AC86 ,  4D075AC88 ,  4D075AC91 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC22 ,  4D075DC24 ,  4F041AA05 ,  4F041AB01 ,  4F041BA34 ,  4F042AA06 ,  4F042BA00 ,  4F042CB00 ,  4F042DH09 ,  5F046JA02 ,  5F046JA04 ,  5F046JA27 ,  5F046LA01 ,  5F046LA04 ,  5F046LA19