特許
J-GLOBAL ID:201203058930045275

被処理体の冷却方法および被処理体処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高山 宏志
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2010055687
公開番号(公開出願番号):WO2010-113941
出願日: 2010年03月30日
公開日(公表日): 2010年10月07日
要約:
被処理体を冷却する冷却方法を開示する。この冷却方法は、加熱状態にある被処理体をステージ上に載置する工程と、ステージ上に載置された被処理体センターを含むセンター近傍の領域に冷却ガスを吹き付け、被処理体を冷却する工程と、を具備する。
請求項(抜粋):
被処理体を冷却する冷却方法であって、 加熱状態にある被処理体をステージ上に載置する工程と、 前記ステージ上に載置された前記被処理体のセンターを含むセンター近傍の領域に冷却ガスを吹き付け、前記被処理体を冷却する工程と、 を具備する被処理体の冷却方法。
IPC (3件):
H01L 21/02 ,  H01L 21/683 ,  C23C 14/58
FI (3件):
H01L21/02 Z ,  H01L21/68 N ,  C23C14/58 Z
Fターム (21件):
4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA01 ,  4K029BD01 ,  4K029CA05 ,  4K029GA00 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031HA38 ,  5F031MA03 ,  5F031MA28 ,  5F031MA30 ,  5F031NA05 ,  5F031PA11 ,  5F031PA13

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