特許

J-GLOBAL ID：201203058996673480

レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

発明者： 市川 幸司 ,  嶋田 雅彦
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-154757
公開番号（公開出願番号）：特開2012-042933
出願日： 2011年07月13日
公開日（公表日）： 2012年03月01日
要約：

【課題】優れたラインエッジラフネス(LER)を有するレジストパターンを製造することができるレジスト組成物の提供。【解決手段】(A)式(a)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及び(B)式(B1)で表される塩を含むレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)式(a)で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂及び (B)式(B1)で表される塩を含むレジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R

Fターム (24件)：

2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH20 ,  2H125AH23 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03