特許
J-GLOBAL ID:201203059535064780
真空圧力制御装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人コスモス特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-274087
公開番号(公開出願番号):特開2012-160168
出願日: 2011年12月15日
公開日(公表日): 2012年08月23日
要約:
【課題】ヒータを使用せずに真空容器内の圧力のアンダーシュートを防止する真空圧力制御装置を提供すること。【解決手段】真空容器と真空ポンプとを接続する配管上であって開度を変化させることにより真空容器内の真空圧力を変化させ、弁座と当接又は離間するOリングを備える弁体とエア式シリンダを備えるパイロット式の真空比例開閉弁18と、真空容器内の真空圧力を計測する圧力センサ17と、圧力センサ17の圧力に基づいてOリングの弾性変形量を変化させ、Oリングからの漏れ量を変化させることにより真空容器内の圧力を制御するコントローラと56、を有する真空圧力制御装置8において、圧力センサ17により計測された真空容器内の圧力が一定以上の圧力下降率となったときに、エア式シリンダの内圧を排気する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
真空容器と真空ポンプとを接続する配管上であって開度を変化させることにより真空容器内の真空圧力を変化させ、弁座と前記弁座と当接又は離間する弾性シール部材を備える弁体とエア式シリンダとを備える真空比例開閉弁と、前記真空容器内の真空圧力を計測する圧力センサと、前記真空容器内の圧力を制御するコントローラと、を有する真空圧力制御装置において、
前記圧力センサにより計測された前記真空容器内の圧力が一定以上の圧力下降率で下がったときに、前記エア式シリンダの内圧を排気すること、
を特徴とする真空圧力制御装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (8件):
5H316AA01
, 5H316BB01
, 5H316DD03
, 5H316DD12
, 5H316EE02
, 5H316FF01
, 5H316HH01
, 5H316HH12
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