特許

J-GLOBAL ID：201203061088082338

薄膜形成装置及び有機ELデバイス製造装置

発明者： 須志原 友和
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 渡辺 敬介 ,  山口 芳広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-246381
公開番号（公開出願番号）：特開2012-097330
出願日： 2010年11月02日
公開日（公表日）： 2012年05月24日
要約：

【課題】有機材料の利用効率の向上と装置設置面積の削減とを両立させて、有機ELデバイスの製造コストを低減できる薄膜形成装置及びインライン型の有機ELデバイス製造装置を提供する。【解決手段】基板16の搬入位置20に配置され、基板16と蒸着マスク17とを相対的に移動させて位置合わせする位置合せ機構15と、基板16が組み込まれた蒸着マスク17を搬送する搬送機構14と、基板16と蒸着マスク17が移動しながら、蒸着マスク17の開口部を通して基板16上に有機材料を積層する成膜機構13と、を備え、少なくとも成膜機構13の前段もしくは後段のいずれか一方において、基板16の搬入位置20もしくは搬出位置21の搬送機構14a、14cと成膜区間の搬送機構14bとが並列配置されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板の搬入位置に配置され、基板と蒸着マスクとを相対的に移動させて位置合わせする位置合せ機構と、 前記基板が組み込まれた前記蒸着マスクを搬送する搬送機構と、 前記基板と前記蒸着マスクが移動しながら、前記蒸着マスクの開口部を通して前記基板上に有機材料を積層する成膜機構と、 を備え、 少なくとも成膜機構の前段もしくは後段のいずれか一方において、基板の搬入位置もしくは搬出位置の搬送機構と成膜区間の搬送機構とが並列配置されていることを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (3件)：

C23C 14/04 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (3件)：

C23C14/04 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (19件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG04 ,  3K107GG31 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  3K107GG42 ,  3K107GG54 ,  4K029AA24 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029FA00 ,  4K029HA01 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09